[发明专利]一种基于MEMS技术的半导体可燃气体传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202210453453.4 申请日: 2022-04-27
公开(公告)号: CN114839230B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 时学瑞;申林;王冉;石保敬;贾毅博;赵静;靳小丹;沈小红;宋雨萍;杨裕清 申请(专利权)人: 河南森斯科传感技术有限公司
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 郑州大豫知识产权代理事务所(普通合伙) 41214 代理人: 周秉彦
地址: 461500 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 mems 技术 半导体 可燃 气体 传感器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于MEMS技术的半导体可燃气体传感器,包括相对设置的气敏模块及加热模块,所述气敏模块与加热模块键合连接,其特征在于:所述气敏模块包括硅衬底,硅衬底下侧面设置有凹槽,且硅衬底的上、下两面均形成有第一绝缘层,位于下侧的第一绝缘层上溅射有测试电极及测试导电带,测试电极上涂覆有气敏涂层,所述气敏涂层中含有半导体金属氧化物、贵金属催化剂、催化剂载体及酸洗石棉,硅衬底厚度方向刻蚀有与测试导电带一一对应的第一引线孔,凹槽的底部刻蚀有若干贯穿硅衬底的通气孔,所述通气孔环绕测试电极,且通气孔呈阵列排布;

所述加热模块包括硅基底,硅基底的上、下两面均氧化形成有第二绝缘层,位于上侧的第二绝缘层上沉积有氮化硅层,氮化硅层上溅射有加热电极及加热导电带,硅基底上部刻蚀形成有隔热腔,隔热腔上方形成设有悬空梁支撑结构的加热平台;所述加热电极位于加热平台上,且加热电极呈环绕状包围在测试电极四周,所述加热导电带连接于加热电极的端部,且加热导电带沿悬空梁向外延伸,硅基底厚度方向刻蚀有与加热导电带一一对应的第二引线孔;

所述气敏涂层的涂覆步骤如下:

(a)准备混合浆料的各原料:氧化锡180~220份、硫酸亚锡72~88份、酸洗石棉3.6~4.4份、氧化铝45~55份、贵金属催化剂6.7~8.3份、三氧化钨6.3~7.7份、氧化镁3.0~3.8份、五氧化二钒2.7~3.3份、五氧化二锑1.4~1.8份、硅酸四乙酯250~310份、甲酸330~400份、乙二醇100~125份、N-甲基吡咯烷酮135~170份、无水乙醇140~175份、纯水180~220份;

(b)制备混合浆料:采用行星式球磨设备,以密闭湿磨的混合方式,将铂黑、氯化钯、氧化铝及纯水混合40 min,再加入硫酸亚锡,混合30 min后,以30℃/min的速率升温至180℃并保温混合50 min,冷却至室温;然后依次加入氧化锡、无水乙醇、N-甲基吡咯烷酮、氧化镁、三氧化钨、五氧化二钒、五氧化二锑、酸洗石棉、乙二醇、硅酸四乙酯及甲酸,继续混合30min,即得混合浆料;

(c)将步骤(b)所得混合浆料采用点胶的方式涂覆在气敏模块上,涂覆厚度为200 nm,然后将气敏模块置于晶圆烧结炉内,于700℃烧结3.5小时,冷却至室温后取出;

所述半导体可燃气体传感器用于检测甲烷、丙烷、异丁烷气体,实现抗酒精挥发干扰。

2.根据权利要求1所述基于MEMS技术的半导体可燃气体传感器,其特征在于:所述加热电极包括前后对称设置的蛇形电极,所述蛇形电极布置呈“凹”形,且前后两个蛇形电极之间有间距,使两个蛇形电极之间形成空白的矩形区域及条形区域;所述加热导电带包括连接端部及连接梁部,所述连接端部为4个、并分别位于氮化硅层的四角处,所述连接梁部的一端与连接端部相连,连接梁部的另一端沿悬空梁延伸至加热平台、并与蛇形电极相连;所述测试电极采用插齿电极,且测试电极位于矩形区域的上方,所述测试导电带位于条形区域的上方,且测试导电带沿横向延伸。

3.根据权利要求1所述基于MEMS技术的半导体可燃气体传感器,其特征在于:所述硅衬底的厚度为200~400 μm,第一绝缘层的厚度为1~3 μm,凹槽的深度为2~40 μm,测试电极的厚度为0.5~5 μm,气敏涂层的厚度为50~500 nm,通气孔的直径为10~500 μm;所述硅基底的厚度为400~600 μm,第二绝缘层的厚度为1~3 μm,氮化硅层的厚度为200~500 nm,加热电极的厚度为0.5~5 μm,隔热腔的深度为250~350 μm。

4.根据权利要求1所述基于MEMS技术的半导体可燃气体传感器,其特征在于:所述加热模块上表面的外缘设置有衬垫,所述衬垫连接于加热模块与气敏模块之间。

5.根据权利要求1所述基于MEMS技术的半导体可燃气体传感器,其特征在于:所述测试电极及加热电极均采用溅射Cr/Pt或Ti/Pt而成,其中,Ti或Cr作为粘结层,粘结层的厚度为50~100 nm。

6.根据权利要求1所述基于MEMS技术的半导体可燃气体传感器,其特征在于:所述第一绝缘层及第二绝缘层均为氧化硅膜。

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