[发明专利]磁悬浮装置以及半导体加工设备

说明书

一种磁悬浮装置和半导体加工设备，该磁悬浮装置包括转子和定子。定子包括至少三个磁性定子基片以及永磁体和导磁体，该至少三个磁性定子基片在定子的轴向上彼此间隔开以在定子的轴向上限定至少两个间隙，在定子的轴向上永磁体和导磁体交替设置于至少两个间隙中；至少三个磁性定子基片的每个包括基片主体以及与基片主体连接的突出部，突出部朝向转子而突出于永磁体和导磁体，突出部上缠绕有磁悬浮线圈；并且至少三个磁性定子基片包括第一磁性定子基片，该第一磁性定子基片的突出部和磁悬浮线圈对转子施加沿定子的轴向向上的力，第一磁性定子基片的数量与至少三个磁性定子基片的总数量之比大于等于50％。本公开的磁悬浮装置能够提供大的、可调节的轴向支撑力。

技术领域

本公开至少一实施例涉及磁悬浮技术领域，尤其涉及一种磁悬浮装置。

背景技术

悬浮技术主要包括磁悬浮、光悬浮、声悬浮、气流悬浮、电悬浮、粒子束悬浮等，其中磁悬浮技术已经发展得比较成熟。在磁悬浮技术中，定子与转子之间的磁相互作用力使得转子悬浮并均匀地旋转，转子与定子之间无接触、无机械摩擦以使得磁悬浮技术尤其适用于对洁净度要求高的场合。

发明内容

根据本公开的实施例，提供一种磁悬浮装置，包括：转子；以及定子，述定子围绕所述转子设置或者所述转子围绕所述定子设置，其中，所述定子包括至少三个磁性定子基片以及永磁体和导磁体，该至少三个磁性定子基片在所述定子的轴向上彼此间隔开以在所述定子的轴向上限定至少两个间隙，在所述定子的轴向上所述永磁体和所述导磁体交替设置于所述至少两个间隙中；所述至少三个磁性定子基片的每个包括基片主体以及与基片主体连接的突出部，所述突出部朝向所述转子而突出于所述永磁体和所述导磁体，所述突出部上缠绕有磁悬浮线圈；并且所述至少三个磁性定子基片包括第一磁性定子基片，所述第一磁性定子基片的突出部和磁悬浮线圈对所述转子施加沿所述定子的轴向向上的力，所述第一磁性定子基片的数量与所述至少三个磁性定子基片的总数量之比大于等于50％。

例如，所述至少三个磁性定子基片还包括第二磁性定子基片，所述第二磁性定子基片的突出部和磁悬浮线圈对所述转子施加沿所述定子的轴向向下的力，并且所述第一磁性定子基片的数量大于等于所述第二磁性定子基片的数量。

例如，所述至少三个磁性定子基片的数量为四个或者多于四个；在所述定子的轴向上，相邻的两个永磁体的彼此相对的表面的磁性相同。

例如，所述定子包括至少两个所述永磁体，且至少两个所述永磁体的磁场强度彼此相等。

例如，所述转子包括转子主体以及从所述转子主体朝向所述定子突出的至少三个凸缘；所述至少三个磁性定子基片与所述至少三个凸缘数量相等且彼此一一对应；所述至少三个凸缘包括与所述第一磁性定子基片对应的第一凸缘，并且所述第一磁性定子基片的突出部在所述定子的轴向上的中线高于所述第一凸缘在所述定子的轴向上的中线。

例如，所述第一磁性定子基片的突出部在所述轴向上的中线高于所述第一凸缘在所述轴向上的中线，包括下述情形之一：(1)在所述定子的轴向上，所述第一磁性定子基片的突出部的上表面高于所述第一凸缘的上表面，并且所述第一磁性定子基片的突出部的下表面高于所述第一凸缘的上表面或者与所述第一凸缘的上表面等高；(2)在所述定子的轴向上，所述第一磁性定子基片的突出部的上表面高于所述第一凸缘的上表面或者与所述第一凸缘的上表面等高，所述第一凸缘的下表面低于所述第一磁性定子基片的突出部的下表面，并且所述第一凸缘的上表面高于所述第一磁性定子基片的突出部的下表面；(3)在所述定子的轴向上，所述第一磁性定子基片的突出部的上表面高于所述第一凸缘的上表面，并且所述第一凸缘的下表面高于所述第一磁性定子基片的突出部的下表面或者与所述第一磁性定子基片的突出部的下表面等高；以及(4)在所述定子的轴向上，所述第一磁性定子基片的突出部的上表面与所述第一凸缘的上表面等高或者低于所述第一凸缘的上表面，并且所述第一磁性定子基片的突出部的下表面高于所述第一凸缘的下表面。