[发明专利]磁悬浮装置以及半导体加工设备在审
申请号: | 202210442450.0 | 申请日: | 2022-04-25 |
公开(公告)号: | CN114826025A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 尹成科 | 申请(专利权)人: | 苏州苏磁智能科技有限公司 |
主分类号: | H02N15/00 | 分类号: | H02N15/00;H02K1/14;H02K3/52;H02K1/17 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王晓燕 |
地址: | 215000 江苏省苏州市相城经济技术开*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁悬浮 装置 以及 半导体 加工 设备 | ||
1.一种磁悬浮装置,包括:
转子;以及
定子,所述定子围绕所述转子设置或者所述转子围绕所述定子设置,其中,
所述定子包括至少三个磁性定子基片以及永磁体和导磁体,该至少三个磁性定子基片在所述定子的轴向上彼此间隔开以在所述定子的轴向上限定至少两个间隙,在所述定子的轴向上所述永磁体和所述导磁体交替设置于所述至少两个间隙中;
所述至少三个磁性定子基片的每个包括基片主体以及与基片主体连接的突出部,所述突出部朝向所述转子而突出于所述永磁体和所述导磁体,所述突出部上缠绕有磁悬浮线圈;并且
所述至少三个磁性定子基片包括第一磁性定子基片,所述第一磁性定子基片的突出部和磁悬浮线圈对所述转子施加沿所述定子的轴向向上的力,所述第一磁性定子基片的数量与所述至少三个磁性定子基片的总数量之比大于等于50%。
2.根据权利要求1所述的磁悬浮装置,其中,所述至少三个磁性定子基片还包括第二磁性定子基片,所述第二磁性定子基片的突出部和磁悬浮线圈对所述转子施加沿所述定子的轴向向下的力,并且所述第一磁性定子基片的数量大于等于所述第二磁性定子基片的数量。
3.根据权利要求1所述的磁悬浮装置,其中,
所述至少三个磁性定子基片的数量为四个或者多于四个;
在所述定子的轴向上,相邻的两个永磁体的彼此相对的表面的磁性相同。
4.根据权利要求3所述的磁悬浮装置,其中,所述定子包括至少两个所述永磁体,且至少两个所述永磁体的磁场强度彼此相等。
5.根据权利要求2所述的磁悬浮装置,其中,
所述转子包括转子主体以及从所述转子主体朝向所述定子突出的至少三个凸缘;
所述至少三个磁性定子基片与所述至少三个凸缘数量相等且彼此一一对应;
所述至少三个凸缘包括与所述第一磁性定子基片对应的第一凸缘,并且所述第一磁性定子基片的突出部在所述定子的轴向上的中线高于所述第一凸缘在所述定子的轴向上的中线。
6.根据权利要求5所述的磁悬浮装置,其中,
所述第一磁性定子基片的突出部在所述轴向上的中线高于所述第一凸缘在所述轴向上的中线,包括下述情形之一:
(1)在所述定子的轴向上,所述第一磁性定子基片的突出部的上表面高于所述第一凸缘的上表面,并且所述第一磁性定子基片的突出部的下表面高于所述第一凸缘的上表面或者与所述第一凸缘的上表面等高;
(2)在所述定子的轴向上,所述第一磁性定子基片的突出部的上表面高于所述第一凸缘的上表面或者与所述第一凸缘的上表面等高,所述第一凸缘的下表面低于所述第一磁性定子基片的突出部的下表面,并且所述第一凸缘的上表面高于所述第一磁性定子基片的突出部的下表面;
(3)在所述定子的轴向上,所述第一磁性定子基片的突出部的上表面高于所述第一凸缘的上表面,并且所述第一凸缘的下表面高于所述第一磁性定子基片的突出部的下表面或者与所述第一磁性定子基片的突出部的下表面等高;以及
(4)在所述定子的轴向上,所述第一磁性定子基片的突出部的上表面与所述第一凸缘的上表面等高或者低于所述第一凸缘的上表面,并且所述第一磁性定子基片的突出部的下表面高于所述第一凸缘的下表面。
7.根据权利要求6所述的磁悬浮装置,其中,在所述情形(2)下,所述第一磁性定子基片的突出部的上表面与所述第一凸缘的上表面之间的距离为H,H≤4/5Ha,其中Ha为所述第一凸缘在所述定子的轴向上的尺寸。
8.根据权利要求7所述的磁悬浮装置,其中,H≤1/5Ha。
9.根据权利要求5所述的磁悬浮装置,其中,
所述至少三个凸缘包括与所述第二磁性定子基片对应的第二凸缘,并且所述第二凸缘在所述定子的轴向上的中线高于所述第二磁性定子基片的突出部在所述定子的轴向上的中线。
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