[发明专利]一种量子点发光二极管及制作方法在审

专利信息
申请号: 202210372331.2 申请日: 2022-04-11
公开(公告)号: CN114583087A 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 王福芝;刘怡娜;朱晓东;王洋;李美成;白一鸣 申请(专利权)人: 华北电力大学
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张影
地址: 102206 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 量子 发光二极管 制作方法
【说明书】:

发明提供了一种量子点发光二极管及制作方法,量子点发光二极管包括顶发射量子点发光二极管与底发射量子点发光二极管两种结构,在顶发射量子点发光二极管的出光侧增加光路调整层或者在底发射量子点发光二极管的出光侧增加光路调整层,增加光路调整层不仅可以增加量子点发光二极管发出的光的出射截面面积,而且该光路调整层还可以对量子点发光二极管发出的光进行折射,从而对光进行光路调整,光路的调整可以提高光的出射几率并且可以提高器件各个角度的出光均匀性。增加光的出射面积、提高光的出射几率以及提高器件各个角度的出光均匀性可以让该量子点发光二极管的光提取效率得到了明显提升。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,更具体地说,涉及一种量子点发光二极管及制作方法。

背景技术

随着科研机构和企业的不断探索和研究,量子点发光二极管(Quantum Dot LightEmitting Diodes,QLED)器件在显示领域取得了重大突破。虽然QLED的结构与有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diodes,OLED)非常相似,但是OLED的发光材料采用有机材料,寿命是有机材料本身不可逾越的致命伤;而QLED的发光材料则采用无机物,其材料特性更稳定,寿命更长,成本也更低。并且QLED色彩表现更加完美,色域可轻易达到最严苛的色彩标准BT2020的90%以上。QLED可以结合量子点优异的光学和电学特性,成为下一代显示技术的强有力竞争者。

现有的QLED包括底发射量子点发光二极管以及顶发射量子点发光二极管,但是,不论是底发射量子点发光二极管还是顶发射量子点发光二极管,都存在光提取效率低的问题。

发明内容

有鉴于此,为解决上述问题,本发明提供一种量子点发光二极管及制作方法,技术方案如下:

一种量子点发光二极管,所述量子点发光二极管包括:

衬底;

位于所述衬底一侧的量子点发光层;

位于所述量子点发光层背离所述衬底一侧或者位于所述衬底背离所述量子点发光层一侧的光路调整层;

其中,所述光路调整层用于对所述量子点发光二极管发出的光进行光路调整。

可选的,在上述量子点发光二极管中,所述光路调整层的材料为X(ACB1)4配合物材料,其中,X为第三副族金属元素。

可选的,在上述量子点发光二极管中,所述X(ACB1)4配合物材料为乙酰丙酮铪(Hf(ACB1)4)配合物材料或乙酰丙酮锆(Zr(ACB1)4)配合物材料。

可选的,在上述量子点发光二极管中,所述X(ACB1)4配合物材料的溶液浓度为1mg/ml-10mg/ml。

可选的,在上述量子点发光二极管中,所述光路调整层包括多个光路调整结构,任一所述光路调整结构背离所述衬底的一端为弧面,所述弧面朝向背离所述衬底的方向凸起。

可选的,在上述量子点发光二极管中,所述量子点发光二极管还包括:

位于所述衬底与所述量子点发光层之间,且在第一方向上依次堆叠设置的第一电极、空穴注入层以及空穴传输层;所述第一方向垂直于所述衬底,且由所述衬底指向所述量子点发光层;

位于所述量子点发光层背离所述衬底一侧电子传输层;

位于所述电子传输层背离所述衬底一侧的第二电极;

其中,所述光路调整层位于所述第二电极背离所述衬底一侧或者位于所述衬底背离所述第二电极一侧。

一种量子点发光二极管的制作方法,所述制作方法包括:

提供一衬底;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华北电力大学,未经华北电力大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210372331.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top