[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置在审
申请号: | 202210274552.6 | 申请日: | 2022-03-18 |
公开(公告)号: | CN114628478A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 杨鸣;刘程;李振;秦少杰;鲍建东 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭栋梁 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
衬底基板,所述衬底基板包括预设区和显示区;
显示层,所述显示层设在所述衬底基板的一侧,包括位于所述显示区的第一子像素和位于所述预设区的第二子像素;
第一黑矩阵,所述第一黑矩阵设在所述显示层背离所述衬底基板一侧的所述显示区内,所述第一黑矩阵包括与所述第一子像素对应的多个第一开口;
定型层,所述定型层至少部分位于所述预设区内,所述定型层包括多个透光部以及与所述第二子像素对应的多个第二开口;
彩膜层,所述彩膜层设在所述显示层背离所述衬底基板的一侧;所述彩膜层包括位于所述显示区和所述预设区的多个彩色滤光片,所述彩色滤光片与所述第一开口和所述第二开口的位置对应。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述定型层与所述第一黑矩阵同层设置。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,单位面积内所述定型层与所述第一黑矩阵的覆盖面积基本相等。
4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在所述定型层的覆盖区域内,所述定型层上设置有贯穿所述定型层上表面和所述定型层下表面的凹槽。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述定型层包括第二黑矩阵,所述定型层包括用于形成所述第二开口的多个定型部,所述定型部包括所述透光部和所述第二黑矩阵形成的第二遮光部。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述第一黑矩阵包括用于形成所述第一开口的第一遮光部,所述第一遮光部的宽度大于所述第二遮光部的第二宽度。
7.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,在显示区和预设区分界处包括第三遮光部,所述第三遮光部的宽度小于所述显示区内第一遮光部宽度;和/或,所述第三遮光部的宽度大于所述预设区内第二遮光部的宽度。
8.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述透光部位于第二遮光部的至少一侧;或所述透光部围绕所述第二遮光部设置;或者,至少部分所述透光部与所述第二遮光部存在交叠。
9.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,在预设区中包括触控走线或触控电极,所述第二黑矩阵至少部分与所述触控走线或触控电极存在交叠。
10.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一子像素在所述显示区的像素密度大于所述第二子像素在所述预设区的像素密度。
11.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述定型层的膜层厚度与所述第一黑矩阵的膜层厚度相同。
12.一种显示基板的制备方法,其特征在于,用于制备如权利要求1-11任一所述的显示基板,所述方法包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板上形成显示层;
在所述显示层上形成第一黑矩阵层,图案化形成多个第一开口;
在所述显示层上形成定型层,图案化形成多个透光部以及第二开口;
在所述第一黑矩阵层和所述定型层上形成彩膜层,图案化形成多个彩色滤光片,所述彩色滤光片与所述第一开口和所述第二开口的位置对应。
13.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-11任一所述的显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的