[发明专利]光取向膜形成用组合物、光取向膜、层叠体及偏振元件

说明书

本发明提供一种光取向膜形成用组合物，其能够形成与基材的密合性良好的光取向膜，并且具有得到改善的液稳定性。本发明的光取向膜形成用组合物包含具有光反应性基团的光取向性聚合物、硅烷偶联剂、酸及溶剂。

技术领域

本发明涉及光取向膜形成用组合物、光取向膜、层叠体及偏振元件。

背景技术

已知有包含在基材上层叠有光取向膜和偏振膜的层叠体的偏振元件，已知该偏振元件的光取向膜通过将含有产生二聚化反应的光反应性基团的光取向膜形成用组合物涂布于基材而形成(专利文献1)。在此种层叠体中，进行过进一步改善光取向膜与基材的密合性、进一步抑制剥离的尝试。

例如专利文献2中，作为能够形成与基板的密合性良好的液晶取向膜的、适于用作相位差膜的液晶取向剂，公开过包含光取向性聚合物及硅烷化合物的液晶取向剂。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-102479

专利文献2：日本特开2014-123091

发明内容

发明所要解决的课题

但是，在如前所述的光取向膜形成用组合物中，在要求由该组合物得到的光取向膜与基材的良好的密合性的基础上，还要求光取向膜形成用组合物的液稳定性的进一步的改善。

因而，本发明的目的在于，提供一种能够形成与基材的密合性良好的光取向膜、并且具有得到改善的液稳定性的光取向膜形成用组合物。

用于解决课题的手段

本发明人等为了解决所述课题进行了深入研究，结果发现，包含具有光反应性基团的光取向性聚合物、硅烷偶联剂、酸及溶剂的光取向膜形成用组合物能够解决所述课题，从而完成了本发明。即，本发明中包含以下的合适的方式。

〔1〕一种光取向膜形成用组合物，其包含具有光反应性基团的光取向性聚合物、硅烷偶联剂、酸及溶剂。

〔2〕根据〔1〕中记载的组合物，其中，所述光取向性聚合物具有产生二聚化反应的光反应性基团。

〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的组合物，其中，所述光取向性聚合物为(甲基)丙烯酸系聚合物。

〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项记载的组合物，其中，所述光取向性聚合物还具有羧基。

〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项记载的组合物，其中，所述光取向性聚合物的重均分子量为10000以上且1000000以下。

〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项记载的组合物，其中，所述硅烷偶联剂具有选自伯氨基及仲氨基中的至少1种基团。

〔7〕根据〔1〕～〔6〕中任一项记载的组合物，其中，相对于所述光取向性聚合物100质量份，所述硅烷偶联剂的含量为0.5质量份以上且30质量份以下。

〔8〕根据〔1〕～〔7〕中任一项记载的组合物，其中，所述酸包含选自甲酸、甲苯磺酸、丙烯酸及乙酸中的至少1种。

〔9〕根据〔1〕～〔8〕中任一项记载的组合物，其中，所述酸与所述硅烷偶联剂的摩尔比为1以上且50以下。

〔10〕一种光取向膜，其是将〔1〕～〔9〕中任一项记载的组合物固化而成的。

〔11〕一种层叠体，其包含基材和〔10〕中记载的光取向膜。

〔12〕根据〔11〕中记载的层叠体，其中，所述基材的膜厚为1μm以上且20μm以下。

〔13〕一种偏振元件，其包含基材、〔10〕中记载的光取向膜及偏振膜。