[发明专利]光取向膜形成用组合物、光取向膜、层叠体及偏振元件在审
| 申请号： | 202210113287.3 | 申请日： | 2022-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN114933772A | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 铃木纯次;幡中伸行;太田阳介;中野雅也 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C08L33/14 | 分类号： | C08L33/14;C08K5/09;C08K5/544;C08J5/18;C08J7/04;G02B5/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 取向 形成 组合 层叠 偏振 元件 | ||
1.一种光取向膜形成用组合物，其包含具有光反应性基团的光取向性聚合物、硅烷偶联剂、酸及溶剂。
2.根据权利要求1所述的组合物，其中，
所述光取向性聚合物具有产生二聚化反应的光反应性基团。
3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，
所述光取向性聚合物为(甲基)丙烯酸系聚合物。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，
所述光取向性聚合物还具有羧基。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，
所述光取向性聚合物的重均分子量为10000以上且1000000以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的组合物，其中，
所述硅烷偶联剂具有选自伯氨基及仲氨基中的至少1种基团。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的组合物，其中，
相对于所述光取向性聚合物100质量份，所述硅烷偶联剂的含量为0.5质量份以上且30质量份以下。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的组合物，其中，
所述酸包含选自甲酸、甲苯磺酸、丙烯酸及乙酸中的至少1种。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的组合物，其中，
所述酸与所述硅烷偶联剂的摩尔比为1以上且50以下。
10.一种光取向膜，其是将权利要求1～9中任一项所述的组合物固化而成的。
11.一种层叠体，其包含基材和权利要求10所述的光取向膜。
12.根据权利要求11所述的层叠体，其中，
所述基材的膜厚为1μm以上且20μm以下。
13.一种偏振元件，其包含基材、权利要求10所述的光取向膜及偏振膜。
14.根据权利要求13所述的偏振元件，其厚度为1μm以上且10μm以下。
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