[发明专利]无源滤波器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210111884.2 申请日: 2022-01-29
公开(公告)号: CN114497027A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 曹雪;肖月磊;李月;车春城;吴艺凡;安齐昌;常文博;周毅;冯昱霖;韩基挏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/01 分类号: H01L27/01;H01L21/70;H03H7/01
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 李迎亚;姜春咸
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 无源 滤波器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种无源滤波器,其特征在于,包括:介质基板、至少一个电容以及至少一个电感;所述介质基板包括沿所述介质基板厚度方向设置的开槽;所述开槽的内壁包括第一部分,所述第一部分上至少部分点的切线的延伸方向与所述介质基板所在平面的延伸方向相交;

所述电容包括背离所述介质基板方向依次设置的第一极板、第一层间介质层以及第二极板;所述电容的第一极板、所述电容的第二极板以及所述第一层间介质层在所述介质基板上的正投影重叠的部分,至少覆盖所述第一部分。

2.根据权利要求1所述的无源滤波器,其特征在于,所述介质基板还包括沿其厚度方向贯穿的第一连接过孔以及沿厚度方向相对设置的第一表面和第二表面;

所述电感包括设置在所述介质基板的所述第一表面上的第一子结构,设置在所述介质基板的所述第二表面上的第二子结构,以及设置在所述第一连接过孔内的第一连接电极,且所述第一连接电极将所述第一子结构和所述第二子结构连接;所述电感与所述电容电连接。

3.根据权利要求2所述的无源滤波器,其特征在于,所述电感为多个,多个所述电感包括第一电感和第二电感;

所述无源滤波器包括第一导电层;所述第一导电层包括所述第一电感的第一子结构、所述第二电感的第一子结构以及所述电容的第一极板;

所述无源滤波器包括第二导电层;所述第二导电层包括所述第一电感的第二子结构以及所述第二电感的第二子结构;

且所述第一电感的第一引线端和所述电容的第一极板相连,所述第二电感的第二引线端和所述电容的第一极板相连。

4.根据权利要求3所述的无源滤波器,其特征在于,所述第一层间介质层在所述介质基板上的正投影,覆盖所述第一子结构和所述电容的第一极板在所述介质基板上的正投影;

所述无源滤波器还包括:设置在所述第一层间介质层和所述电容的第二极板背离所述介质基板一侧的第二层间介质层;设置在所述第二层间介质层背离所述介质基板一侧的第三层间介质层;以及设置在背离所述第二介质层一侧的第一连接焊盘、第二连接焊盘以及第三连接焊盘;

所述第一连接焊盘通过贯穿所述第一层间介质层和所述第二层间介质层上的第二连接过孔与所述第一电感的第二引线端相连;

所述第二连接焊盘通过贯穿所述第一层间介质层和所述第二层间介质层上的第三连接过孔与所述第二电感的第一引线端相连;

所述第三连接焊盘通过贯穿所述第二层间介质层上的第四连接过孔与所述电容的第二极板相连。

5.根据权利要求1所述的无源滤波器,其特征在于,所述开槽为盲槽。

6.根据权利要求5所述的无源滤波器,其特征在于,所述盲槽包括半球型盲槽、圆柱型盲槽以及立方体型盲槽。

7.根据权利要求1所述的无源滤波器,其特征在于,所述电容的第一极板、所述电容的第二极板以及所述第一层间介质层在所述介质基板上的正投影重叠的部分,完全覆盖所述开槽的内壁。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的无源滤波器,其特征在于,所述介质基板包括玻璃基或硅基。

9.一种无源滤波器的制备方法,其特征在于,提供一介质基板,所述介质基板包括沿所述介质基板厚度方向设置的开槽;所述开槽的内壁包括第一部分,所述第一部分上至少部分点的切线的延伸方向与所述介质基板所在平面的延伸方向相交;

形成至少一个电容和至少一个电感;形成所述电容的步骤包括:

在背离所述介质基板一侧依次形成所述电容的第一极板、第一层间介质层和所述电容的第二极板;所述电容的第一极板和所述电容的第二极板以及第一层间介质层在所述介质基板上的正投影重叠的部分,覆盖所述第一部分。

10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述开槽包括盲槽;所述介质基板包括沿其厚度方向相对设置的第一表面和第二表面;

所述提供一介质基板包括:在所述介质基板的第一表面沿其厚度方向形成所述盲槽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210111884.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top