[发明专利]大尺寸钨酸铋晶体的助熔剂生长方法及应用在审
申请号: | 202210110657.8 | 申请日: | 2022-01-29 |
公开(公告)号: | CN114561704A | 公开(公告)日: | 2022-05-31 |
发明(设计)人: | 田相鑫;刘敬权 | 申请(专利权)人: | 临沂大学 |
主分类号: | C30B29/32 | 分类号: | C30B29/32;C30B28/02;C30B9/12;G01T1/202;G02F1/355 |
代理公司: | 天津睿勤专利代理事务所(普通合伙) 12225 | 代理人: | 孟福成 |
地址: | 276005 山东省临*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 尺寸 钨酸铋 晶体 熔剂 生长 方法 应用 | ||
1.一种大尺寸钨酸铋晶体的助熔剂生长方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
步骤S1,晶体生长料的预制;
生长Bi2WO6、Ce:Bi2WO6、Bi2MoxW1-xO6(0≤x≤0.3)、Ce:Bi2MoxW1-xO6(0≤x≤0.3)晶体原料预制方式:预先合成目标晶体的多晶,将多晶与助熔剂进行充分混合获得晶体生长料;或者不经目标晶体的多晶合成,直接将原料按照目标晶体的化学计量比进行配料,与助熔剂进行充分混合,获得晶体生长料;
步骤S2,目标晶体的助熔剂生长,分为两步:
第一步:无籽晶生长:将盛放有晶体生长料的坩埚移到可编程控制高温熔盐炉中,加热至950℃-980℃并恒温直至原料完全熔化均匀,形成均一的单相溶液;然后降温,通过自发结晶形成晶片,继续降温使晶体厚度增加、横向尺寸增大,降温至晶体生长温度区间900-800℃,降温速率为0.1-5℃/d,生长周期为5-20天,获得籽晶;
第二步:籽晶生长:将盛放有晶体生长料的坩埚移到可编程控制高温熔盐炉中,加热至950℃-980℃并恒温直至原料完全熔化均匀,形成均一的单相溶液;然后降温,将铂丝轻触液面,观察铂丝上出现晶体的温度,确定饱和温度点;然后重复加热至950℃-980℃再次获得均一溶液,然后降温至饱和温度之后将第一步生成的籽晶轻触液面;然后缓慢降温至晶体生长温度区间900-800℃,降温速率为0.005-1℃/d,晶体生长周期为10-50天,获得目标晶体。
2.根据权利要求1所述的大尺寸钨酸铋晶体的助熔剂生长方法,其特征在于,Bi2MoxW1-xO6、Ce:Bi2MoxW1-xO6中x范围为0≤x≤0.3。
3.根据权利要求2所述的大尺寸钨酸铋晶体的助熔剂生长方法,其特征在于,培养Bi2WO6晶体、Ce:Bi2WO6晶体、Bi2MoxW1-xO6晶体、Ce:Bi2MoxW1-xO6晶体的无籽晶生长的高温熔盐炉为具有温度梯度的温场配置;培养Bi2WO6晶体、Ce:Bi2WO6晶体、Bi2MoxW1-xO6晶体、Ce:Bi2MoxW1-xO6晶体的籽晶生长的高温熔盐炉为具有恒温区的温场配置。
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