[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202210109471.0 申请日: 2022-01-28
公开(公告)号: CN114497161A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 颜海龙;张锴;宋二龙;吴董杰;蔡兴瑞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 张翠蓬
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括:衬底基板;设置在衬底基板一侧的像素限定层,像素限定层包括开口区域以及环绕开口区域设置的非开口区域;设置在像素限定层背离衬底基板一侧的有机材料层;其中,非开口区域内的像素限定层包括隔断结构,隔断结构用于减薄或隔断对应位置的有机材料层。本公开通过在非开口区域内的像素限定层上设置隔断结构,使得对应位置的有机材料层被减薄或隔断,相当于减少或者隔断了各个子像素之间有机材料层的接触,增大了子像素之间有机材料层的接触电阻,更大的接触电阻使得发光子像素产生的漏电流无法流向相邻子像素,从而可以改善侧向漏电以及背面发光,提高显示效果。

技术领域

本公开涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)为主动发光显示器件,具有自发光、广视角、高对比度、低功耗、宽色域、轻薄化、可异形化等优点。

发明内容

本公开提供了一种显示基板,包括:

衬底基板;

设置在所述衬底基板一侧的像素限定层,所述像素限定层包括开口区域以及环绕所述开口区域设置的非开口区域;

设置在所述像素限定层背离所述衬底基板一侧的有机材料层;

其中,所述非开口区域内的像素限定层包括隔断结构,所述隔断结构用于减薄或隔断对应位置的有机材料层。

在一种可选的实现方式中,所述隔断结构为隔断槽,且所述隔断槽的槽口朝向所述开口区域。

在一种可选的实现方式中,所述非开口区域内的像素限定层包括层叠设置的第一材料层和第二材料层,所述第一材料层靠近所述衬底基板设置,所述第一材料层具有朝向所述开口区域的第一端面,所述第二材料层具有朝向所述开口区域的第二端面,所述第一端面相对于所述第二端面朝远离所述开口区域的方向缩进第一预设距离;

其中,所述第一端面构成所述隔断槽的槽底。

在一种可选的实现方式中,所述非开口区域内的像素限定层还包括设置在所述第一材料层靠近所述衬底基板一侧的第三材料层,所述第三材料层具有朝向所述开口区域的第三端面;

其中,所述第一端面还相对于所述第三端面朝远离所述开口区域的方向缩进。

在一种可选的实现方式中,所述第二端面相对于所述第三端面平齐,或者所述第二端面相对于所述第三端面朝向远离所述开口区域的方向缩进第二预设距离。

在一种可选的实现方式中,所述第二预设距离大于或等于30纳米,且小于或等于200纳米。

在一种可选的实现方式中,所述第二端面的坡度角大于或等于20°,且小于或等于70°;和/或,

所述第三端面的坡度角大于或等于20°,且小于或等于70°。

在一种可选的实现方式中,所述第一材料层的材料、所述第二材料层的材料以及所述第三材料层的材料均为无机材料。

在一种可选的实现方式中,所述无机材料包括以下至少之一:氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、钛以及铝。

在一种可选的实现方式中,所述第一材料层的厚度大于或等于20纳米,且小于或等于50纳米;和/或,

所述第二材料层的厚度大于或等于20纳米,且小于或等于50纳米;和/或,

所述第三材料层的厚度大于或等于5纳米,且小于或等于40纳米。

在一种可选的实现方式中,所述非开口区域内的像素限定层还包括设置在所述第二材料层背离所述衬底基板一侧的第四材料层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210109471.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top