[发明专利]一种钕铁硼磁铁的电镀工艺

说明书

本发明涉及一种钕铁硼磁铁的电镀工艺，电镀工艺使用了电镀设备，电镀设备包括电镀池以及可放置在电镀池中的置架，以及用于检测电镀液中磁铁电镀前后重量的重量检测机构，电镀工艺包括以下步骤，S1，将经过前处理的磁铁放置在置架上；S2，将置架放置在电镀池中；S3，在电流作用下，对磁铁进行电镀；S4，重量检测机构实时监测磁铁电镀前后的重量并发送信号给控制器；S5，控制器通过公式(h：镀层厚度；Δm：镀层重量；ρ：镀层密度；S：磁铁表面积)计算镀层的实时厚度，直到镀层达到预设厚度，本申请通过重量检测机构监测电镀层的实时重量，以便于计算镀层的实时厚度，进而控制电流密度的增减，提高电镀效率。

技术领域

本发明涉及磁体制备技术领域，具体是涉及一种钕铁硼磁铁的电镀工艺。

背景技术

永磁体即硬磁体，能够长期保持其磁性的磁体，不易失磁，也不易被磁化。因而，无论是在工业生产还是在日常生活中，硬磁体是最常用的强力材料之一。硬磁体可以分为天然磁体和人造磁体，人造磁铁是指通过合成不同材料的合金可以达到与天然磁体(吸铁石)相同的效果，而且还可以提高磁力。随着20世纪60年代，稀土永磁的出现，则为磁体的应用开辟了一个新时代，第一代钐钴永磁SmCo，第二代沉淀硬化型钐钴永磁SmCo，迄今为止，发展到第三代钕铁硼永磁材料(NdFeB)。虽然目前铁氧体磁体仍然是用量最大的永磁材料，但钕铁硼磁体的产值已大大超过铁氧体永磁材料，已发展成一大产业。钕铁硼磁体的优点是性价比高，体积小、重量轻、良好的机械特性和磁性强等特点，高能量密度的优点使钕铁硼永磁材料在现代工业和电子技术中获得了广泛的应用，在磁学界被誉为磁王。因而，钕铁硼磁体的应用和扩展一直是业内持续关注的焦点。钕铁硼永磁体中的钕是稀土元素，化学活性很强，其标准平衡电位为-2.431V，在空气中易被氧化，耐蚀性差。根据T.Minowa等人对NdFeB永磁体腐蚀机理的研究表明，NdFeB磁体由富NdFeB相、富Nd相和富B相3相组成。相互接触的各相电位不同，必然引起电化学反应，形成腐蚀电池，使材料的耐腐蚀性能下降。

钕铁硼磁体中的钕是稀土元素，化学活性很强，在空气中极易氧化，耐蚀性差，因此，钕铁硼磁体的表面都会电镀上若干层金属镀层，如采用镍铜镍镀层组合体系，在钕铁硼磁体表面镀上金属层之前，要对钕铁硼磁体进行前处理，以提高镀层与钕铁硼基体间的结合力。

现钕铁硼磁铁在电镀时，一般通过控制电镀时间来控制镀层的厚度，而为便于控制镀层厚度，电镀过程中的电流密度一般恒定，即无法通过调节电流密度来调节电镀效率。

中国专利CN201410263544.7公开了一种钕铁硼磁体电镀镍方法，具体包括对钕铁硼磁体进行前处理工艺、预镀镍工艺、水洗工艺、镀半光镍工艺、水洗工艺、镀光亮镍工艺和水洗工艺，在预镀镍工艺中采用由硫酸镍、硼酸、琥珀酸酯钠盐、羧乙基磺酸钠和水组成的第一电镀镍溶液，在镀半光镍处理过程中采用由硫酸镍、柠檬酸氢二铵、硼酸、氨水和水组成的第二电镀镍溶液，第一电镀镍溶液中不含有氯离子，第一电镀镍溶液中含有琥珀酸酯钠盐和羧乙基磺酸钠，第二电镀镍溶液中含有适量的柠檬酸氢二铵。

该镀镍方法无法通过调节电流密度来调节电镀效率。

发明内容

基于此，有必要针对现有技术问题，提供一种钕铁硼磁铁的电镀工艺。

为解决现有技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种钕铁硼磁铁的电镀工艺，所述电镀工艺使用了电镀设备，电镀设备包括电镀池以及可放置在电镀池中的置架，电镀设备还包括用于检测电镀液中磁铁电镀前后重量的重量检测机构，所述电镀工艺包括以下步骤，S1，将经过前处理的磁铁放置在置架上；S2，将置架放置在电镀池中；S3，在电流作用下，对磁铁进行电镀；S4，重量检测机构实时监测磁铁电镀前后的重量并发送信号给控制器；S5，由控制器通过公式(h：镀层厚度；Δm：镀层重量；ρ：镀层密度；S：磁铁表面积)计算镀层的实时厚度，直到镀层达到预设厚度，从电镀池中取出置架和磁铁。