[发明专利]一种钕铁硼磁铁的电镀工艺

权利要求书

1.一种钕铁硼磁铁的电镀工艺，所述电镀工艺使用了电镀设备，电镀设备包括电镀池（1）以及可放置在电镀池（1）中的置架（2），其特征在于，电镀设备还包括用于检测电镀液中磁铁电镀前后重量的重量检测机构，所述电镀工艺包括以下步骤，

S1，将经过前处理的磁铁放置在置架（2）的滚筒内；

S2，将置架（2）放置在电镀池（1）中；

S3，在电流作用下，对磁铁进行电镀；

S4，重量检测机构实时监测磁铁电镀前后的重量并发送信号给控制器；

S5，由控制器通过公式； ：镀层厚度；：镀层重量；：镀层密度；：磁铁表面积；计算镀层的实时厚度，直到镀层达到预设厚度，从电镀池（1）中取出置架（2）和磁铁；

S3中，初始电流密度提升至第一电流密度后恒定 ，再降低至第二电流密度后恒定，直至形成所需的镀层厚度后断电；

所述置架（2）包括第一置杆（2a）、开口架（2b）、滚筒（2c）、伺服电机（2d）和同步链（2e），第一置杆（2a）沿水平方向架设在电镀池（1）上，开口架（2b）开口朝下的设置在第一置杆（2a）的底端，滚筒（2c）转动设置在开口架（2b）的开口处，且滚筒（2c）的轴线水平，滚筒（2c）上均匀布置有孔，滚筒（2c）位于电镀池（1）内，伺服电机（2d）固定设置在开口架（2b）上，且开口架（2b）的输出轴通过同步链（2e）与滚筒（2c）固定连接；

置架（2）还包括引流扇（2f），引流扇（2f）同轴固定设置在滚筒（2c）的两端，滚筒（2c）转动时，引流扇（2f）引导电镀液自滚筒（2c）内向电镀池（1）排出；

第一置杆（2a）为多边形杆，电镀池（1）的顶端两侧设置有支座（1a），第一置杆（2a）的两端与支座（1a）沿竖直方向嵌合并设置在电镀池（1）的顶部；

重量检测机构包括第二置杆（3b）、第二双孔平行梁式传感器（3c）、立板（3d）和夹具（3e），第二置杆（3b）沿水平方向安置在电镀池（1）的顶部，立板（3d）通过第二双孔平行梁式传感器（3c）设置在第二置杆（3b）的底部，夹具（3e）设置在立板（3d）的底端并位于电镀池（1）内，夹具（3e）上磁铁与电镀液的接触面积等于滚筒内磁铁与电镀液的接触面积；

夹具（3e）包括安置板（3e1）、固定爪（3e2）、活动爪（3e3）和螺纹丝杆（3e4），安置板（3e1）沿水平方向设置在立板（3d）的底端，固定爪（3e2）设置在安置板（3e1）的底端，固定爪（3e2）相对活动爪（3e3）滑动设置在安置板（3e1）的底端，固定爪（3e2）和活动爪（3e3）均沿竖直方向延伸，螺纹丝杆（3e4）沿固定爪（3e2）的滑动方向转动设置在安置板（3e1）上，螺纹丝杆（3e4）和活动爪（3e3）螺纹拧接；

通过第二置杆、第二双孔平行梁式传感器、立板和夹具组成了用于夹持磁铁的结构，通过间接测量滚筒内磁铁电镀层质量的方式，防止振动容易对检测磁铁电镀前后的重量造成误差，通过将一个磁铁相对于置架外设在电镀池中，并且使得夹具上磁铁与电镀液的接触面积等于置架上磁铁与电镀液的接触面积，使得置架上单个磁铁的电镀重量等于夹具上磁铁的电镀质量，以便于计算置架上所有磁铁的电镀层的实时质量，进而能够精准控制电镀层的厚度。