[实用新型]一种管式气相沉积炉有效
申请号: | 202121536967.3 | 申请日: | 2021-07-07 |
公开(公告)号: | CN214937791U | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 董家海 | 申请(专利权)人: | 浙江诺华陶瓷有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京君恒知识产权代理有限公司 11466 | 代理人: | 王恒 |
地址: | 322100 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 管式气相 沉积 | ||
本实用新型涉及气相炉设备技术领域,更具体的说是一种管式气相沉积炉。本实用新型提供一种管式气相沉积炉,其有益效果为可以实现使待加工物体均匀分布在管内,无法使得气体与待加工物体充分接触。一种管式气相沉积炉,包括管体、进料口、气孔、加热箱、连接板和底座,管体两端均设有进料口和气孔,加热箱滑动连接在管体上,管体连接在连接板上,连接板转动连接在底座上。一种管式气相沉积炉还包括挡片、固定螺栓和固定环,管体上可拆卸连接有两个挡片,多个固定螺栓分别螺纹连接在两个挡片上,两个固定环均固定连接在连接板上,两个固定环上设有多个螺纹孔,管体能够穿过两个固定环。
技术领域
本实用新型涉及气相炉设备技术领域,更具体的说是一种管式气相沉积炉。
背景技术
申请号为CN201821903801.9公开的一种LPCVD沉积炉,涉及沉积炉领域。该LPCVD沉积炉,包括底座,所述底座的顶部包括箱体、左支架和右支架,所述箱体的底部与底座的顶部固定连接,所述左支架位于箱体的左侧设置,所述左支架的底部与底座的顶部固定连接,左支架的右侧与箱体的左侧固定连接,右支架位于箱体的右侧设置,右支架的左侧与箱体的右侧固定连接,左支架的顶部包括左卡块,左卡块的底部后侧通过铰链与左支架的顶部后侧转动连接。该LPCVD沉积炉,通过在箱体的两侧设置左支架、左卡块、右支架和右卡块,从而达到了将沉积炉固定的目的,通过在箱体的两侧设置卡炉口和橡胶垫,在箱体的正面设置插板,从而解决了沉积炉体在箱体中不方便取出和放置的问题。但是该专利无法实现使待加工物体均匀分布在管内,无法使得气体与待加工物体充分接触。
实用新型内容
本实用新型提供一种管式气相沉积炉,其有益效果为可以实现使待加工物体均匀分布在管内,无法使得气体与待加工物体充分接触。
一种管式气相沉积炉,包括管体、进料口、气孔、加热箱、连接板和底座,管体两端均设有进料口和气孔,加热箱滑动连接在管体上,管体连接在连接板上,连接板转动连接在底座上。
一种管式气相沉积炉还包括挡片、固定螺栓和固定环,管体上可拆卸连接有两个挡片,多个固定螺栓分别螺纹连接在两个挡片上,两个固定环均固定连接在连接板上,两个固定环上设有多个螺纹孔,管体能够穿过两个固定环。
一种管式气相沉积炉还包括减速电机和丝杠,丝杠固定连接在减速电机的输出轴上,丝杠转动连接在两个固定环上,加热箱螺纹连接在丝杠上。
本实用新型一种管式气相沉积炉的有益效果为:
本实用新型能够使待加工物体均匀分布在管内,无法使得气体与待加工物体充分接触,并且使得物体能够与加热箱发出的热量均匀接触,提升沉积加工效果。
附图说明
下面结合附图和具体实施方法对本实用新型做进一步详细的说明。
图1为一种管式气相沉积炉的整体结构示意图一;
图2为一种管式气相沉积炉的整体结构示意图二;
图3为管体和分隔板的结构示意图;
图4为连接板和固定环的结构示意图;
图5为连接板和底座的结构示意图;
图6为加热箱和连接板的结构示意图;
图7为固定部的结构示意图。
图中:管体101;进料口102;气孔103;挡片104;固定螺栓105;均分板106;分隔板107;加热箱201;连接板301;固定环302;减速电机303;丝杠304;限位条305;滑槽306;底座401;液压缸402;传动部403;气缸404;固定部405。
具体实施方式
参看图1-2,示出了按照本实用新型中使得落入管式气相沉积炉内的物料均匀分布在管内的实施例的示意图,进一步地,
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的