[发明专利]一种用于提升LED器件光提取效率的边际湿法处理方法在审
申请号: | 202111643670.1 | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN114420815A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 邓信甫;刘大威;陈丁堃 | 申请(专利权)人: | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L33/24 | 分类号: | H01L33/24;H01L21/02;H01L21/306 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 提升 led 器件 提取 效率 边际 湿法 处理 方法 | ||
1.一种用于提升LED器件光提取效率的边际湿法处理方法,其特征在于,包括:
步骤S1:于一基板上形成多个所述LED器件;
步骤S2:于所述LED器件的部分表面形成牺牲层,对所述LED器件进行蚀刻,于所述LED器件的侧面形成斜面;
步骤S3:对所述LED器件采用第一清洗方法进行清洗,随后对所述LED器件进行干燥处理以完成处理过程。
2.根据权利要求1所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述步骤S2包括:
步骤S21:于所述LED器件的中心一矩形区域内形成所述牺牲层;
步骤S22:对所述LED器件采用湿法蚀刻,以去除所述牺牲层以及所述LED器件于所述矩形区域以外的部分;
步骤S23:对所述LED器件采用第二清洗方法进行清洗,根据一预设的蚀刻面积参数生成新的所述矩形区域,返回所述步骤S21,直至所述斜面形成;
新的所述矩形区域的面积大于原有的所述矩形区域的面积。
3.根据权利要求2所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述基板的材质包括蓝宝石、氮化镓;
所述步骤S2中,所述湿法蚀刻的蚀刻液包括硫酸和磷酸。
4.根据权利要求2所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述步骤S23中,所述第二清洗方法包括:
步骤A1:对所述LED器件采用氨水进行清洗;
步骤A2:采用纯水冲洗所述LED器件;
步骤A3:将环境温度上升至一预定温度。
5.根据权利要求1所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述步骤S3中,所述第一清洗方法包括:
步骤B1:采用纯水冲洗所述LED器件;
步骤B2:采用一酸液清洗所述LED器件;
步骤B3:再次采用所述纯水冲洗所述LED器件。
6.根据权利要求5所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述步骤B2中,所述酸液为浓度25%~30%的硝酸溶液,所述硝酸溶液的温度在50℃~100℃之间;
所述步骤B2的清洗时长在1分钟~5分钟。
7.根据权利要求5所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述步骤B2中,所述酸液为浓度40%~50%的磷酸溶液,所述磷酸溶液的温度在170℃~220℃之间;
所述步骤B2的清洗时长在1分钟~5分钟。
8.根据权利要求1所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述步骤B3中,所述干燥方法为:
步骤C1:于所述LED器件表面形成一异丙醇薄膜;
步骤C2:注入超临界态二氧化碳,以使得所述超临界态二氧化碳扩散至所述异丙醇薄膜下方;
步骤C3:对生产环境减压以去除异丙醇和二氧化碳。
9.根据权利要求1所述的边际湿法处理方法,其特征在于,所述LED器件为矩形,所述斜面形成于所述LED器件的对边或周向。
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