[发明专利]一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板在审
| 申请号： | 202111595437.0 | 申请日： | 2021-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN114262879A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 章鹏;冯仁;岳鹏;张爱兵;迮建军;古宏伟;蔡渊 | 申请（专利权）人： | 苏州新材料研究所有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46;C23C16/54;C23C16/40 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴;徐律 |
| 地址： | 215124 江苏省苏州市苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提高 mocvd 沉积 中带材 运动 稳定性 弧形 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，其特征在于，包括弧形板本体，其实施为一面为平面，另一面为弧面；
所述弧形板本体的宽度方向的其中一个侧面上加工有若干间隔的、且朝向另一个侧面延伸的孔，所述孔用于插入控温热电偶；
所述弧形板本体的弧面的两端分别铣有多个用于限制带材横向漂移的限位部。
2.根据权利要求1所述的用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，其特征在于，所述限位部为由弧面向平面方向凹陷的限位槽。
3.根据权利要求1所述的用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，其特征在于，所述弧形板的弧面的两端均倒角处理。
4.根据权利要求1所述的用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，其特征在于，所述孔采用放电技术加工而成。
5.根据权利要求1所述的用于提高MOCVD沉积中带材运动稳定性的弧形板，其特征在于，按照基带宽度为12mm的情况下，所述限位槽的宽度为12.5mm。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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