[发明专利]红光外延层及其生长方法、红光LED芯片及显示面板有效
申请号: | 202111569684.3 | 申请日: | 2021-12-21 |
公开(公告)号: | CN114497297B | 公开(公告)日: | 2023-02-24 |
发明(设计)人: | 谷鹏军 | 申请(专利权)人: | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/00;H01L33/30 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 李发兵 |
地址: | 402760 重庆市璧*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 红光 外延 及其 生长 方法 led 芯片 显示 面板 | ||
1.一种红光外延层,其特征在于,包括:
N型半导体层;
P型半导体层;以及
介于所述N型半导体层与所述P型半导体层之间的有源层;
其中,所述有源层包括多个交替层叠的阱层与垒层,且自靠近所述N型半导体层的一端到靠近所述P型半导体层的一端,所述有源层中各所述阱层的厚度逐渐增大;所述垒层为含Al垒层,自靠近所述N型半导体层的一端到靠近所述P型半导体层的一端,各所述垒层中Al组分含量呈等差数列降低,以使各所述垒层的势垒逐渐降低。
2.如权利要求1所述的红光外延层,其特征在于,自靠近所述N型半导体层的一端到靠近所述P型半导体层的一端,各所述阱层的厚度呈等差数列增大。
3.如权利要求2所述的红光外延层,其特征在于,自靠近所述N型半导体层的一端到靠近所述P型半导体层的一端,第i个所述阱层的厚度为5+0.1*(i-1)纳米,所述i=1,2,…I,所述I为所述有源层中所述阱层的总数,所述I为13~26之间的整数。
4.如权利要求1所述的红光外延层,其特征在于,所述有源层中所述阱层与所述垒层交替层叠的周期数为20,且所述有源层两端均为所述阱层。
5.如权利要求1-4任一项所述的红光外延层,其特征在于,所述垒层中包含(AlyGa1-y)0.5In0.5P,0.7≤y≤0.9。
6.如权利要求1-4任一项所述的红光外延层,其特征在于,自靠近所述N型半导体层的一端到靠近所述P型半导体层的一端,第j个所述垒层中y的取值为0.9-(j-1)*0.01,所述j=1,2,…J,所述J为所述有源层中所述垒层的总数,所述J为12~25之间的整数。
7.一种红光LED芯片,其特征在于,包括:
如权利要求1-6任一项所述的红光外延层;
与所述红光外延层中N型半导体层电连接的N电极;以及
与所述红光外延层中P型半导体层电连接的P电极。
8.一种显示面板,其特征在于,包括:
驱动背板;以及
多颗设置在所述驱动背板上的红光LED芯片,所述红光LED芯片包括N电极、P电极以及如权利要求1-6任一项所述的红光外延层,所述N电极、P电极分别与所述红光外延层中的N型半导体层、P型半导体层电连接。
9.一种红光外延层生长方法,其特征在于,应用于如权利要求1-6任一项所述的红光外延层的生长,所述红光外延层生长方法包括:
生长N型半导体层;
在所述N型半导体层上交替生长阱层与垒层多个周期以形成有源层,所述垒层为含Al垒层,且沿着所述有源层的生长方向,各所述阱层的厚度逐渐增大,各所述垒层中Al组分含量呈等差数列降低,以使各所述垒层的势垒逐渐降低;以及
在所述有源层上生长P型半导体层。
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