[发明专利]一种基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111483678.6 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114203865B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 齐胜利;温荣吉;周飚;刘亚柱 申请(专利权)人: 宁波安芯美半导体有限公司
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/12;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 代理人: 魏玉娇
地址: 315336 浙江省宁波市杭州湾*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 蓝宝石 衬底 氮化 外延 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤一、在蓝宝石平片衬底上先烘烤,时间1-15min,温度1000-1200℃,NH3流量1000-10000sccm;外延生长基盘的转速为100-1200r/min,压力为5-800mbar;

步骤二、生长优化的buffer层,反应腔内的温度进行梯度升温,整个阶段温度控制在800-1200℃之间,梯度升温过程包括n个温度恒定阶段和n个温度提升阶段,温度恒定阶段和温度提升阶段随时间的增长交替出现;当n≥2时,所述温度提升阶段的开始温度等于前一个所述温度恒定阶段的温度,其中n为3≤n≤6的正整数;

NH3通入的量分为n个流量变化阶段和n个流量恒定阶段,所述n个流量变化阶段和所述n个流量恒定阶段随时间的增长交替出现,所述n个流量变化阶段与所述n个温度提升阶段出现的时间相对应,所述n个流量恒定阶段与所述n个温度恒定阶段出现的时间相对应;

设定m为1≤m≤n的正整数,在第m个流量变化阶段内,NH3按照小流量Am和大流量Am+1交替周期性通入,在第m个流量恒定阶段,NH3按照大流量Am+1持续通入;第一个流量变化阶段的小流量A1为500-1000sccm,后一个流量变化阶段的小流量Am+1与前一个流量变化阶段的大流量Am相同,每个流量变化阶段内小流量Am和大流量Am+1的差值为500-5000sccm;

三甲基铝以恒定的速度持续通入,流量为100-500sccm;

外延生长基盘的转速为200-1200r/min,压力为10-800mbar,制得氮化铝缓冲层;

步骤三、在所述氮化铝缓冲层上先生长3D氮化铝过渡层,再生长2D氮化铝过渡层,制得氮化铝过渡层;

步骤四、在所述氮化铝过渡层上依次生长非掺杂氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层、P型电子阻挡层、P型氮化镓层和P型接触层,制得基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片。

2.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,每个所述温度提升阶段的持续时间为50-500s,温度提升的速度大于0且小于1.5℃/s。

3.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,每个所述温度恒定阶段的持续时间为50-500s。

4.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,在每个所述的流量变化阶段内,小流量Am和大流量Am+1单次通入时间均为2-10s,小流量Am和大流量Am+1交替通入的周期数为10-30个。

5.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,步骤三中所述3D氮化铝过渡层的生长参数为:温度为900-1300℃,NH3的流量为100-5000sccm,生长厚度为500-1000nm;外延生长基盘的转速为200-1200r/min,压力为10-800mbar。

6.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,步骤三中所述2D氮化铝过渡层的生长参数为:温度为1000-1500℃,NH3流量为100-5000sccm,厚度为500-1500nm;外延生长基盘的转速为200-1200r/min,压力为10-800mbar。

7.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,反应腔内的温度为800-1000℃。

8.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,所述n为3。

9.根据权利要求1所述的基于蓝宝石衬底的氮化铝外延片的制备方法,其特征在于,高纯氢气为载气,三甲基铝作为Al源,氨气作为N源。

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