[发明专利]一种基于贝叶斯学习的稀疏阵列角度估计方法及其装置在审

专利信息
申请号: 202111461641.3 申请日: 2021-12-02
公开(公告)号: CN116224212A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 吴敏;郝程鹏 申请(专利权)人: 中国科学院声学研究所
主分类号: G01S3/14 分类号: G01S3/14;G06F18/2415
代理公司: 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 代理人: 陈琳琳;杨青
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 贝叶斯 学习 稀疏 阵列 角度 估计 方法 及其 装置
【说明书】:

发明属于信号处理技术领域,具体地说,涉及一种基于贝叶斯学习的稀疏阵列角度估计方法及其装置,该方法包括:将稀疏阵列中的每个阵元接收对应的接收信号进行向量化处理,得到向量形式的输出信号,稀疏阵列输出该向量形式的输出信号,得到二维输出信号模型,将其降维处理,得到一维输出信号模型;从得到的一维输出信号模型中,提取测量矩阵和需要恢复的二维空间谱矩阵;采用贝叶斯学习方法,当需要恢复的二维空间谱矩阵满足RIP特性时,根据得到的一维输出信号模型和测量矩阵,构造优化函数;对构造的优化函数进行求解,得到二维空时谱,并对得到的二维空时谱在时间上做累加,得到目标的空间谱,再对其进行恒虚警检测,得到目标的方位估计。

技术领域

本发明属于信号处理,以及雷达信号、声学信号和电磁信号的波束方向估计技术领域,具体地说,涉及一种基于贝叶斯学习的稀疏阵列角度估计方法及其装置。

背景技术

波束形成是阵列信号处理的重要任务,广泛应用于雷达、声呐、通信等领域,可抑制空间干扰,估计信号到达方向,从而实现对目标的探测与定位。现代阵列信号处理在多目标,集群目标环境下,对角度分辨率要求越来越高,增大阵列尺寸,增加信号的方位信息在不同的阵元间的差异,可以带来更高的分辨能力,但是,这会带来高昂的硬件制作成本。因此,在稀疏布阵条件下,提高空间增益和角度分辨率,成了阵列信号处理领域的热点问题。当阵元数目有限时,阵元对空域信号的采样将不满足奈奎斯特采样定理,常规波束形成算法很难保证角度估计性能。

常见的波束形成方法有时延求和波束形成(Delay-and-sum,DAS)和最小方差无畸变(Minimum Variance Distortion-less Response,MVDR)波束形成器;其中,DAS通过补偿各通道时延差后求和得到波束输出,其计算复杂度低,稳健性高;Capon提出的MVDR波束形成器,采用最小方差准则,最小化输出功率,最大化阵增益。同时,近30年来,涌现出一些子空间高分辨方位估计算法,其中最具代表性的是多重信号分类(Multiple SignalClassification,MUSIC)算法,MUSIC算法首先对阵列接收数据构造协方差矩阵,接着对协方差矩阵进行特征分解,从而得到与信号分量与噪声分量对应的信号子空间和噪声子空间,然后利用利用信号子空间和噪声子空间的正交性,构建空间谱函数,通过谱峰搜索,估计信号的角度信息,从理论上克服了瑞利准则,可获得目标角度的超分辨估计。

但是,传统的DAS算法由于受孔径大小的限制,空间分辨率较低,而依靠增加阵元数量提高分辨率会增加系统的硬件成本。MVDR算法和MUSIC算法均需对协方差矩阵进行分解,并进行谱峰搜索,其受噪声影响较大,计算复杂度高。

发明内容

为解决现有技术存在的上述缺陷,本发明提出了一种基于贝叶斯学习的稀疏阵列角度估计方法,该方法包括:

将稀疏阵列中的每个阵元接收对应的接收信号进行向量化处理,得到向量形式的输出信号,稀疏阵列输出该向量形式的输出信号,得到二维输出信号模型,将其降维处理,得到一维输出信号模型;

从得到的一维输出信号模型中,提取测量矩阵和需要恢复的二维空间谱矩阵;采用贝叶斯学习方法,当需要恢复的二维空间谱矩阵满足RIP特性时,根据得到的一维输出信号模型和测量矩阵,构造优化函数;

对构造的优化函数进行求解,得到二维空时谱,并对得到的二维空时谱在时间上做累加,得到目标的空间谱,再对其进行恒虚警检测,得到目标的方位估计。

作为上述技术方案的改进之一,所述将稀疏阵列中的每个阵元接收对应的接收信号进行向量化处理,得到向量形式的输出信号,稀疏阵列输出该向量形式的输出信号,得到二维输出信号模型,将其降维处理,得到一维输出信号模型;其具体实现过程为:

假设稀疏阵列为具有M个阵元的随机阵列,采用直角坐标表示;假设空间中存在N个方向的远程来波,每个阵元接收各个方向的远程来波,作为接收信号;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院声学研究所,未经中国科学院声学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111461641.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top