[发明专利]金属遮罩及其制造方法

说明书

本发明公开一种金属遮罩及其制造方法，所述金属遮罩包括压延金属材料，以形成金属遮罩基材，其中金属遮罩基材包括表面以及形成在此表面上的多条沟槽，而这些沟槽皆朝向一方向延伸。表面具有至少一取样区域，而多条沟槽分布于取样区域中，其中取样区域中的这些沟槽的面积与取样区域的面积之间的平均面积比值介于45％与68％之间。

技术领域

本发明是有关于一种应用于图案化制程的工具以及此工具制造方法，且特别是有关于一种金属遮罩及其检测方法。

背景技术

现今已有一些显示面板采用蒸镀(evaporation)并搭配使用金属遮罩的方式来制造，其中上述金属遮罩具有多个开口。在蒸镀的过程中，镀料能通过这些开口而沉积在被镀基板(例如玻璃板)上，以形成图案化膜层。现有的金属遮罩通常是采用光刻(photolithography)制程制造，所以这些开口通常是由显影后的光阻图案所定义。

目前的显示面板已朝向高分辨率的趋势而发展，所以金属遮罩的这些开口之间的间距(pitch)须要缩小，以使金属遮罩可以用来制造高分辨率的显示面板。然而。一旦这些开口之间的间距缩小，光阻图案覆盖相邻两开口之间区域的部分也会跟着缩小，以至于在进行蚀刻的过程中，光阻图案可能没有确实覆盖上述相邻两开口之间的区域而导致后续形成一些不合规格的大尺寸开口，甚至形成多个彼此相连的开口，造成制造完成的金属遮罩不适合或无法用于制造高分辨率的显示面板。

发明内容

本发明至少一实施例提出一种金属遮罩，其可应用于制造显示面板。

本发明另一实施例提出一种金属遮罩的制造方法，以制造上述金属遮罩。

在本发明至少一实施例所提出的金属遮罩的制造方法中，首先，压延金属材料，以形成金属遮罩基材，其中金属遮罩基材包括表面以及形成在此表面上的多条沟槽，而这些沟槽皆朝向一方向延伸。表面具有至少一取样区域，而多条沟槽分布于取样区域中，其中取样区域中的这些沟槽的面积与取样区域的面积之间的平均面积比值介于45％与68％之间。

在本发明至少一实施例中，上述制造方法还包括对金属遮罩基材进行光刻制程。

在本发明至少一实施例中，上述表面具有多个取样区域。在同一个取样区域中，根据位于取样区域中的这些沟槽的面积与取样区域的面积定义面积比值，而平均面积比值等于这些取样区域的面积比值的平均值。

在本发明至少一实施例中，上述金属遮罩基材还包括一对彼此相对的长边与一对彼此相对的短边，而这些长边连接这些短边。这些取样区域沿着这些长边而分布，而上述方向平行于这些长边的延伸方向。

本发明至少一实施例所提出的金属遮罩包括表面、多条沟槽以及多个开口。表面具有至少一取样区域。这些沟槽与这些开口皆形成在表面上，而这些沟槽皆朝向同一方向延伸，其中取样区域中的这些沟槽的面积与取样区域的面积之间的平均面积比值介于45％与68％之间。

在本发明至少一实施例中，各个沟槽的宽度介于7微米至23微米。

在本发明至少一实施例中，上述金属遮罩还包括一对彼此相对的长边与一对彼此相对的短边，其中这些长边连接这些短边，而上述沟槽延伸的方向平行于这些长边的延伸方向。

在本发明至少一实施例中，上述表面具有多个取样区域，而这些取样区域沿着这些长边而分布。

在本发明另一实施例所提出的金属遮罩的制造方法中，首先，压延金属材料，以形成金属遮罩基材，其中金属遮罩基材包括表面以及形成在此表面上的多条沟槽，而这些沟槽皆朝向同一方向延伸。之后，于表面选取至少一取样区域。量测并取得取样区域中的这些沟槽的面积与取样区域的面积之间的平均面积比值。当平均面积比值介于45％与68％之间时，对金属遮罩基材进行光刻制程。