[发明专利]一种硬掩膜组合物及其制备方法、形成图案的方法

权利要求书

1.一种硬掩膜组合物，其特征在于，所述硬掩膜组合物中包含聚合物，所述聚合物为由化学式1表示的重复单元：

其中，R₁选自氢原子或碳原子数为1～10的一价取代基；R₂、R₃各自独立地选自氢原子或碳原子数为1-18的有机基团；m为1-3之间任意整数。

2.根据权利要求1所述的硬掩膜组合物，其特征在于，R₁选自碳原子数为1～10的一价取代烷基；

当R₂、R₃各自独立地选自碳原子数为1-18的有机基团，所述碳原子数为1-18的有机基团包括：烷基、苯基、包含取代基的苯基、萘基、包含取代基的萘基。

3.根据权利要求1所述的硬掩膜组合物，其特征在于，R₁为氢原子，R₂、R₃各自独立地选自苯基或萘基，m为1或2。

4.根据权利要求1所述的硬掩膜组合物，其特征在于，所述聚合物的中均分子量为500～10000。

5.根据权利要求1所述的硬掩膜组合物，其特征在于，所述硬掩膜组合物中还包含溶剂；

所述溶剂包括丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、环己酮及乳酸乙酯中的任意一种。

6.根据权利要求5所述的硬掩膜组合物，其特征在于，所述硬掩膜组合物中还包含表面活性剂；

所述表面活性剂包括聚氧乙烯烷基醚类、聚氧乙烯烷基芳基醚类、失水山梨糖醇脂肪酸酯类、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯类中的任意一种或两种以上。

7.根据权利要求6所述的硬掩膜组合物，其特征在于，以所述硬掩膜组合物的总量计，所述聚合物的质量占比为4％～25％，所述表面活性剂的质量占比0.01％～0.1％，所述溶剂的质量占比75～95.6％。

8.权利要求1中所述硬掩膜组合物的制备方法，其特征在于，所述制备方法为：

取所述聚合物与溶剂混合，所述聚合物的质量占比为4％～25％，溶剂的质量占比75～95.6％。

9.一种形成图案的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

在基板上提供材料层；

将权利要求1～7任一项所述的硬掩膜组合物施加在所述材料层上；

热处理所述硬掩膜组合物以形成硬掩膜；

在所述硬掩膜上形成含硅薄层；

在所述含硅薄层上形成光刻胶抗蚀层；

将所述光刻胶抗蚀层曝光并显影以形成光刻胶图案；

使用所述光刻胶图案选择性去除所述含硅薄层和所述硬掩膜以暴露所述材料层的一部分；

刻蚀所述材料层的暴露部分。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，其中形成硬掩膜的方法为：

将所述硬掩膜组合物以溶液形式旋涂在所述材料层上，在200℃到500℃下对所述硬掩膜组合物进行热处理，热处理时间约为10秒到10分钟，以形成硬掩膜。