[发明专利]发光二极管及其制作方法、应用在审

专利信息
申请号: 202111284715.0 申请日: 2021-11-01
公开(公告)号: CN115696956A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 吴婷婷;陈亚文 申请(专利权)人: 广东聚华印刷显示技术有限公司
主分类号: H10K50/82 分类号: H10K50/82;H10K99/00;H10K50/165;H10K59/12;H10K59/17;H10K71/00
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴燕琳
地址: 510700 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 发光二极管 及其 制作方法 应用
【权利要求书】:

1.一种发光二极管的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

在基底的一侧表面之上依次沉积形成在厚度方向上层叠设置的底电极、发光层、电子传输层以及顶电极,其中,所述电子传输层的材料为ZnO或ZnMgO,所述顶电极的材料为Al;

在所述顶电极的表面涂覆有机酸性处理剂,热退火使所述顶电极的材料下渗至所述电子传输层的材料中,并与电子传输层的材料反应形成掺杂所述顶电极的材料的电子传输层。

2.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,所述发光层的材料为蓝色量子点发光材料。

3.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,所述有机酸性处理剂包括丙烯酸、苯甲酸、甘氨酸、丙氨酸、天冬氨酸、谷氨酸以及苯丙酸中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,热退火的步骤包括:将涂覆所述有机酸性处理剂之后的材料加热至80℃~120℃,烘烤0.5h~2h。

5.根据权利要求1所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,所述有机酸性处理剂的涂覆厚度为50μm~100μm。

6.根据权利要求1~5任一项所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,热退火之后还包括正向老化的步骤,正向老化的电流密度为30mA/cm2~100mA/cm2,老化时间为0.5h~2h。

7.根据权利要求1~5任一项所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,所述顶电极的厚度为50nm~200nm。

8.根据权利要求1~5任一项所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,还包括如下步骤:

在所述底电极和所述发光层之间形成空穴注入层以及空穴传输层中的至少一层。

9.根据权利要求8所述的发光二极管的制作方法,其特征在于,所述基底的材料为具有底电极的ITO、IZO、ZTO以及AZO中的一种或几种;和/或,

所述空穴注入层的材料为PEDOT:PSS、HATCN、MoO3以及Cu2O中的一种或几种;和/或,

所述空穴传输层的材料为TFB、PVK、NiO、NPB以及TCTA中的一种或几种。

10.一种发光二极管,其特征在于,是通过权利要求1~9任一项所述的发光二极管的制作方法制作得到的。

11.一种显示器件,其特征在于,包括权利要求10所述的发光二极管。

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