[发明专利]一种降低挥发的磁光晶体制备方法在审

专利信息
申请号: 202111244032.2 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN114108090A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 王昌运;陈伟;陈养国;陈秋华 申请(专利权)人: 福建福晶科技股份有限公司
主分类号: C30B29/28 分类号: C30B29/28;C30B15/10;C30B15/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350003 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 挥发 晶体 制备 方法
【说明书】:

发明公开一种降低挥发的磁光晶体制备方法,采用高纯的Ga2O3和Tb4O7为原料,适当富Ga2O3,采用自动化提拉炉,采用圆台形铱金坩埚,坩埚上面增加坩埚盖片,利用这种特殊坩埚结构,有效降低Ga2O3的挥发。

技术领域

本发明涉及晶体生长领域,特别涉及一种降低挥发的磁光晶体制备方法。

背景技术

铽镓石榴石(TGG)晶体在400~1100nm波段(不包括470~500 nm)透明,且具有大磁光常数、低透射损耗、高热导率、高抗激光损伤阈值及易生长大尺寸晶体等优点,是目前这一波段最好的磁光材料之一。它是用于制作法拉第隔离器的最佳磁光材料,广泛应用于YAG、掺Ti蓝宝石等多级放大、环形及种子注入激光器中。传统采用提拉法来生长大尺寸的TGG 单晶,但生长过程常常会遇到组分 Ga2O3 的挥发,强烈的液流效应和界面翻转,晶体出现螺旋生长和开裂等问题。

发明内容

为了降低晶体生长过程Ga2O3 的挥发造成组分偏离,本发明采用圆台形铱金坩埚,坩埚开口直径比底部直径大,且坩埚上面放置一片坩埚盖片,中间留孔用于籽晶下种,全程晶体采用自动化生长,利用圆台形坩埚和坩埚盖的结构,改变熔体温度梯度,有效降低Ga2O3的挥发,保证晶体稳定生长。

附图说明

图1是铱金坩埚示意图。

具体实施方式

采用初始原料为高纯的Ga2O3和Tb4O7,为除去原料中的水分,然后按化学计量比配料,适当富Ga2O3。称料后的原料经充分混合后,采用等静压机将混合料压制成柱状的块体型;接着将其置于自制的烧结炉中,采用分段升温程序进行高温烧结,将烧好的料置于圆台形坩埚中,然后放入自动化炉子中,炉内充高纯氮气和适当CO2作为保护气体,设置程序,按照程序完成下种、缩颈、放肩、等径、收尾等工艺生长出φ40×50mm3的透明铽镓石榴石晶体。

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