[发明专利]一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法在审
申请号: | 202111204838.9 | 申请日: | 2021-10-15 |
公开(公告)号: | CN113969397A | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 李星;张灵朝;范斌宏 | 申请(专利权)人: | 浙江生波智能装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/56 |
代理公司: | 中山卓融知识产权代理事务所(普通合伙) 44791 | 代理人: | 彭国军;赵钊 |
地址: | 314499 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 真空镀膜 设备 镀膜 控制 方法 | ||
1.一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于包括如下步骤:
A:抽真空,抽真空装置(101)对真空室(100)进行抽真空;
B:预冷却,基材传送装置(1)通过水冷结构对驱动辊(11)进行预冷却;
C:预紧张力,基材传送装置(1)通过驱动辊(11)将基材(10)绷紧,并将基材(10)传送至雾化加热装置(2)的上方;
D:雾化,雾化装置(21)将液态有机镀膜材料进行雾化,并将雾化后的液态有机镀膜材料喷出至加热装置(22)的加热箱体(221)内;
E:汽化,加热装置(22)的加热组件(222)对加热箱体(221)进行加热,从而将雾化后的有机镀膜材料进行加热以使其汽化;
F:附着,涂覆载体组件(23)驱动汽化后的有机镀膜材料从喷口(2211)喷出并附着于基材(10)的表面上;
G:冷却成型,预冷却后的驱动辊(11)对附着于基材(10)表面上的有机镀膜材料进行冷却成型。
2.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于还包括如下步骤:
H:固化传送,基材传送装置(1)将附着有有机镀膜材料的基材(10)传送至紫外固化装置(3)的一侧;
I:固化,紫外固化装置(3)向基材(10)发射紫外线,从而将冷却成型于基材(10)表面上的有机镀膜材料进行紫外固化。
3.根据权利要求1或2所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于在所述雾化步骤中,雾化装置(21)将液态有机镀膜材料雾化为20μm的微小颗粒。
4.根据权利要求3所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于在所述雾化步骤中,包含有增压喷出步骤:增压接头(213)接入外部高压气,使得经雾化后的液态有机镀膜材料经过雾化喷头(2122)增压喷出并在加热箱体(221)内迅速扩散。
5.根据权利要求1或2所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于在所述汽化步骤中,加热组件(222)将加热箱体(221)加热至400℃以上的高温。
6.根据权利要求1或2所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于在所述附着步骤中,包含有二进制均气步骤:外部高压气源通过进气管(231)进入布气管(232),并通过布气总出口(2320)喷出至加热箱体(221)内,从而驱动汽化后的有机镀膜材料依次通过数个导流挡板(223)并均匀地通过喷口(2211)喷出。
7.根据权利要求6所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于在所述附着步骤中,还包含有气帘形成步骤:外部高压气通过气帘通气孔(2302)往基材(10)的方向喷射,从而在隔离罩(230)的顶部边缘形成环形封闭的气帘。
8.根据权利要求4所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于在所述雾化步骤中,还包含有双重冷却步骤:外部冷却液和冷却气体分别通过水冷进口(214)和气冷进口(216)进入至第一冷却空间(2113)和第二冷却空间,并分别从水冷出口(215)气冷出口(217)回流,从而实现雾化装置(21)的循环水冷和循环气冷。
9.根据权利要求2所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法,其特征在于在所述固化步骤中,包括光源冷却步骤:光源冷却系统对紫外光源进行降温。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的