[发明专利]一种改善埋铜板凹陷的方法在审

专利信息
申请号: 202111155733.9 申请日: 2021-09-29
公开(公告)号: CN113923883A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 王佐;夏国伟;王辉;廖润秋 申请(专利权)人: 胜宏科技(惠州)股份有限公司
主分类号: H05K3/24 分类号: H05K3/24;H05K1/18;H05K1/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 谭映华;黄丽娴
地址: 516211 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 铜板 凹陷 方法
【权利要求书】:

1.一种改善埋铜板凹陷的方法,其特征在于:包括依次进行的下面步骤:前工序、内层图形、成型锣槽、压合、沉铜和板电、外层图形,图形电镀、退膜、磨板和后工序;

所述成型锣槽,将埋铜位置对应的区域进行锣槽,形成埋铜槽,将铜块放入埋铜槽内,所述埋铜槽的尺寸比铜块的尺寸要大;

压合形成多层电路板;

所述外层图形,在电路板上贴膜、曝光和显影,制作外层图形,并且对应埋铜槽的位置进行开窗,使埋铜槽裸露出来;

所述图形电镀,对铜块与电路板之间的区域进行镀铜,使铜块和电路板之间无缝隙;

所述磨板,将镀铜后凸起电路板表面的凸起部分打磨平整。

2.根据权利要求1所述的一种改善埋铜板凹陷的方法,其特征在于:所述板电包括采用闪镀的方式加厚铜层5~7微米。

3.根据权利要求1所述的一种改善埋铜板凹陷的方法,其特征在于:所述磨板,采用砂带进行磨板。

4.根据权利要求1所述的一种改善埋铜板凹陷的方法,其特征在于:所述成型锣槽,埋铜槽内壁和铜块之间的距离至少为6mil。

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