[发明专利]显示面板及其制作方法

说明书

本申请公开了一种显示面板及其制作方法，所述显示面板的制作方法，包括步骤：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成有机材料层；在所述有机材料层上形成透明导电层；对所述透明导电层进行氧化处理；形成显示面板。通过上述方案，以提高透明导电层的抗干扰能力。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

透明导电层已广泛应用于多种电子器材，例如液晶显示器，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示器，触控面板或太阳能面板等。透明导电层一般以氧化铟锡为主要材料，该材料具有良好的导电性能。

以TFT-LCD(Thin film transistor liquid crystal display)为例，一般的显示面板在阵列基板会设置像素电极，在彩膜基板上设置公共电极来驱动液晶分子旋转。在TFT-LCD中，主要通过调节像素电极，给像素电极施加不同的电压来控制液晶分子偏转的角度，来显示不同的灰阶画面。而显示面板的最佳工作电压则是由公共电极来决定的。在显示面板实际工作过程中，显示面板往往需要在有机材料层上形成以透明导电层，例如设置在彩膜基板上的公共电极一般也由透明导电层形成，由于制程因素，会使得公共电极的阻抗不均，导致画面闪烁的问题，而如何提升公共电极的抗干扰能力成为本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

本申请的目的是提供一种显示面板及其制作方法，以提高透明导电层的抗干扰能力。

本申请公开了一种显示面板的制作方法，包括步骤：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成有机材料层；

在所述有机材料层上形成透明导电层；

对所述透明导电层进行氧化处理；以及

形成显示面板。

可选的，所述有机材料层为彩色光阻层。

可选的，所述对所述透明导电层进行氧化处理的步骤中，包括步骤：

将带有所述透明导电层的衬底基板放置在刻蚀机台中；以及

通入预设时间的氧化气体，在预设温度下反应；以完成氧化处理。

可选的，所述氧化气体包括氧气、臭氧和氯气中的一种或多种。

可选的，所述氧化气体的通入速率为30-600sccm，所述预设时间为5-30秒。

可选的，所述预设温度为50-120摄氏度。

可选的，所述衬底基板为彩膜基板；

所述形成显示面板的步骤中包括：

提供一阵列基板与所述彩膜基板成盒形成显示面板。

可选的，所述衬底基板为阵列基板；

所述在所述衬底基板上形成有机材料层的步骤中包括：

在所述衬底基板上形成主动开关阵列层；以及

在所述主动开关阵列层上形成彩色光阻层；

所述形成显示面板的步骤中包括：

提供一对盒基板与所述阵列基板对立成盒形成显示面板。

可选的，所述彩色光阻层包括：红色光阻、绿色光阻、蓝色光阻、黄色光阻、透明光阻和黑色光阻的一种或多种。