[发明专利]一种印制电路板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111122094.6 申请日: 2021-09-24
公开(公告)号: CN115866926A 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 王星星 申请(专利权)人: 深南电路股份有限公司
主分类号: H05K3/38 分类号: H05K3/38;H05K1/02
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何倚雯
地址: 518117 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 印制 电路板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种印制电路板的制备方法,其特征在于,所述印制电路板的制备方法包括:

获取到待棕化板件,依次对所述待棕化板件进行酸洗、第一次水洗、第一次超声波水洗、第二次水洗,得到第一板件;

依次对所述第一板件进行碱洗、第二次超声波水洗、第三次水洗,得到第二板件;

依次对所述第二板件进行第一次浸渍、棕化,得到棕化后的板件;

依次对所述棕化后的板件进行第四次水洗、第二次浸渍、第五次水洗以及烘干,以制备印制电路板。

2.根据权利要求1所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,所述获取到待棕化板件,依次对所述待棕化板件进行酸洗、第一次水洗、第一次超声波水洗、第二次水洗,得到第一板件的步骤包括:

获取到待棕化板件,通过酸洗剂对所述待棕化板件进行酸洗,其中,酸洗时长范围为15-17秒;

基于第一预设规格通过去离子水对酸洗后的待棕化板件进行第一次水洗;

对第一次水洗后的待棕化板件进行第一次超声波水洗,其中,所述第一次超声波水洗的洗涤时长范围为12-14秒;

再次基于所述第一预设规格通过去离子水对第一次超声波水洗后的待棕化板件进行第二次水洗,得到所述第一板件;

其中,所述第一预设规格中洗涤时长范围为6-8秒。

3.根据权利要求2所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,

所述酸洗剂包括含铜化合物、硫酸、过硫酸盐以及去离子水,其中,所述含铜化合物的浓度范围为3-20g/L,所述过硫酸盐的浓度范围为20-30g/L。

4.根据权利要求1所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,所述依次对所述第一板件进行碱洗、第二次超声波水洗、第三次水洗,得到第二板件的步骤包括:

通过碱洗剂对所述第一板件进行碱洗,其中,洗涤时长范围为28-30秒;

通过纯水对碱洗后的第一板件进行第二次超声波水洗,其中,所述第二次超声波水洗的洗涤时长范围为17-19s;

基于第二预设规格通过纯水对第二次超声波水洗后的第一板件进行第三次水洗,得到所述第二板件,其中,所述第二预设规格中洗涤时长范围为8-10秒。

5.根据权利要求4所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,

所述碱洗剂包括含铜化合物、有机清洗剂以及去离子水,其中,所述含铜化合物的浓度小于3g/L,所述有机清洗剂的浓度范围为8-12%。

6.根据权利要求1所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,所述依次对所述第二板件进行第一次浸渍、棕化,得到棕化后的板件的步骤包括:

通过纯水对所述第二板件进行第一次浸渍,其中所述第一次浸渍的浸渍时长范围为26-28秒;

通过棕化液对第一次浸渍后的第二板件进行棕化,得到所述棕化后的板件,其中,棕化时长范围为50-60秒。

7.根据权利要求6所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,所述棕化液包括含铜化合物、双氧水、有机酸、有机叠氮化合物、含氯化合物以及纯水;

其中,所述含铜化合物的浓度范围为5-20g/L,所述含氯化合物的浓度范围为22-25ppm。

8.根据权利要求1所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,所述依次对所述棕化后的板件进行第四次水洗、第二次浸渍、第五次水洗以及烘干,以制备印制电路板的步骤包括:

基于第三预设规格通过纯水对所述棕化后的板件进行第四次水洗;

通过纯水对第四次水洗后的板件进行第二次浸渍;

基于所述第三预设规格通过纯水对第二次浸渍后的板件进行第五次水洗;

对第五次水洗后的板件进行热风烘干,其中,所述烘干的温度范围为75-85℃,烘干的时长范围为40-45s;

其中,所述第三预设规格中洗涤时长范围为12-16s。

9.根据权利要求8所述的印制电路板的制备方法,其特征在于,所述纯水的电导率小于或等于0.5us/cm。

10.一种印制电路板,其特征在于,所述印制电路板由上述权利要求1-9任一项所述的印制电路板的制备方法制备而成。

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