[发明专利]一种微流控制芯片及其制作方法在审
申请号: | 202111060902.0 | 申请日: | 2021-09-10 |
公开(公告)号: | CN113694977A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 彭康;丁丁 | 申请(专利权)人: | 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;B01L7/00;C12M1/00 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 庄何媛;范继晨 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 控制 芯片 及其 制作方法 | ||
本公开提供了一种微流控制芯片及其制作方法,包括:基板、盖板,二者之间形成腔室,腔室底部设置阵列孔区域,盖板两端设置进液口与出液口,进液口与出液口延第一方向设置,腔室内设置有由多个导流坝组成的阵列,每个导流坝均设置在相邻的两行或两列阵列孔之间,导流坝延第二方向设置;导流坝的阵列至少包括第一部分和第二部分,第一部分导流坝与腔室的第一侧壁连接,第二部分导流坝与腔室的第二侧壁连接;任意一个第一部分导流坝均与至少一个第二部分导流坝相邻设置,第一部分导流坝与第二部分导流坝在第一方向上的投影之间具有重叠部分。本公开通过在芯片腔室内设置导流坝阵列,将其腔室内大气泡的产生概率,提高进样成功率,使芯片准确性提升。
技术领域
本公开涉及微流控及分子诊断技术领域,特别涉及一种微流控制芯片及其制作方法。
背景技术
微流控芯片技术是以微米级的流体操控为基础,在小尺寸的芯片上实现复杂的生化反应过程,使大型分析仪器不断向小型化、集成化、自动化、高通量等方向迭代升级,促进了以快速定量为核心的实时检测、现场分析等领域的发展。目前能够在微流控芯片上集成的生化反应已有很多种,聚合酶链式反应(Polymerase Chain Reaction,PCR)是其中之一,它是一种在体外通过酶促反应大量合成目标DNA片段的经典分子生物学实验技术,具有特异性强、灵敏度高、操作简便等特点。
数字PCR(dPCR)是近年来迅速发展起来的第三代核酸分子定量分析技术,其原理是将一个样本均匀分配到几万个不同的反应单元,每个单元至少包含一个拷贝的目标DNA模板,随后在每个反应单元中分别进行PCR扩增,扩增结束后对各个反应单元的荧光信号进行统计学分析。目前数字PCR的实现形式主要有阵列式和液滴式,其中阵列式的数字PCR芯片相比液滴式生成的微反应体积更加均一,稳定性较高且体系之间影响较小,更有利于获得准确度高的分析结果。然而阵列式数字PCR芯片在进样的时候,由于芯片本身工艺及封装均匀性的问题,液体从一边的进样口流向另一边时,各部分液体流速不同步,流动较快的液体可能抢先到达出口,导致芯片内其他部分因出液口被封堵,生成腔室内的大气泡,影响其他部分液体进样,造成进样失败,对液体在微阵列腔室中分布的均匀性和完整性造成影响,最终影响检测结果的准确性。
发明内容
本公开实施例的目的在于提供一种微流控制芯片及其制作方法,用以解决现有技术中阵列式芯片内各部分液体流速不均导致大气泡产生,影响液体样本的进样成功率,导致检测结果准确率低的问题。
本公开的实施例采用如下技术方案:一种微流控制芯片,至少包括:基板、盖板,所述基板和所述盖板之间形成腔室,所述腔室底部设置有阵列孔区域,所述盖板两端设置有进液口与出液口,并且所述进液口与所述出液口延第一方向设置,其特征在于:所述腔室内设置有由多个导流坝组成的阵列,每个所述导流坝均设置在所述阵列孔区域内相邻的两行或两列阵列孔之间,所述导流坝延第二方向设置,所述第二方向与所述第一方向不同;所述导流坝的阵列至少包括第一部分和第二部分,其中,所述第一部分的导流坝与所述腔室的第一侧壁连接,所述第二部分的导流坝与所述腔室的第二侧壁连接,所述第二侧壁为与所述第一侧壁相对的侧壁;任意一个所述第一部分的导流坝均与至少一个第二部分的导流坝相邻设置,并且,所述第一部分的导流坝以及所述第二部分的导流坝在所述第一方向上的投影之间具有重叠部分。
在一些实施例中,所述导流坝与所述基板固定连接,或者,所述导流坝与所述盖板固定连接。
在一些实施例中,所述导流坝的横截面形状为以下任意一种:梯形、矩形、倒梯形。
在一些实施例中,所述导流坝的高度小于或等于所述腔室的高度。
在一些实施例中,所述导流坝的高度为所述腔室的高度的80%至90%之间。
在一些实施例中,所述导流坝由疏水材料制成;或者,所述导流坝表面涂覆有疏水材料。
在一些实施例中,所述导流坝至少包括以下类型之一:直线型、曲线型、波浪形。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111060902.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于BIM模型的施工监理方法及系统
- 下一篇:一种眼镜框生产用喷漆装置