[发明专利]一种彩膜结构及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202111051880.1 申请日: 2021-09-08
公开(公告)号: CN113764494A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 谭光耀;孔超 申请(专利权)人: 成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;G02B1/11;G02B1/111
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 膜结构 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种彩膜结构,其特征在于,包括彩膜基板以及设置于所述彩膜基板出光侧的减反层,所述彩膜基板包括彩膜层以及位于所述彩膜层周围的黑矩阵,所述减反层包括第一透明材料层和第二透明材料层,所述第一透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率,所述第一透明材料层至少部分覆盖所述彩膜层,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二透明材料层的交界形成第一反射界面,所述第一反射界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述黑矩阵。

2.根据权利要求1所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一透明材料层包括远离所述彩膜基板一侧的第一表面以及靠近所述彩膜基板一侧的第二表面,所述第一表面至少部分覆盖所述彩膜层,所述第二表面至少部分覆盖所述黑矩阵。

3.根据权利要求2所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一反射界面包括相对设置的第一界面和第二界面,所述第一界面配置为将入射所述第一透明材料层远离所述彩膜基板一侧的至少部分光线反射至所述第二界面,所述第二界面配置为将入射所述第二界面的至少部分光线反射至所述黑矩阵。

4.根据权利要求3所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一界面至少部分覆盖所述彩膜层,且所述第一界面至少部分位于所述第一表面与所述彩膜层之间。

5.根据权利要求3所述的彩膜结构,其特征在于,所述第二界面至少部分覆盖所述第二表面和所述黑矩阵。

6.根据权利要求3所述的彩膜结构,其特征在于,所述第二透明材料层包括第一子材料层和第二子材料层,所述第一透明材料层位于所述第一子材料层和所述第二子材料层之间,所述第一透明材料层与所述第一子材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第一子材料层的交界形成所述第一界面,所述第一透明材料层与所述第二子材料层至少部分相连,所述第一透明材料层与所述第二子材料层的交界形成所述第二界面。

7.根据权利要求6所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面倾斜设置;和/或,所述第二界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面倾斜设置。

8.根据权利要求7所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面形成的倾斜角度为43°-45°;和/或,所述第二界面与所述彩膜基板靠近所述减反层一侧表面形成的倾斜角度为43°-45°。

9.根据权利要求6所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一子材料层的截面为正三角形或正梯形;和/或,所述第二子材料层的截面为倒三角形或倒梯形。

10.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一透明材料层的折射率为1.8-1.9,所述第二透明材料层的折射率为1.3-1.4。

11.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,所述第一透明材料层的材料包括引进硫、磷原子的丙烯酸树脂材料、环氧树脂、环硫树脂、烯烃类树脂好和聚氨酯树脂中的至少一种。

12.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,所述第二透明材料层的材料为硅氧烷树脂或全氟乙烯树脂。

13.根据权利要求1至9任一所述的彩膜结构,其特征在于,还包括第三透明材料层,所述第三透明材料层位于所述减反层与所述彩膜基板之间,所述第三透明材料层的折射率大于所述彩膜基板的折射率,小于所述第一透明材料层的折射率。

14.根据权利要求13所述的彩膜结构,其特征在于,所述第三透明材料层的折射率大于所述第二透明材料层的折射率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111051880.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top