[发明专利]基板处理系统以及状态监视方法

权利要求书

1.一种基板处理系统，具备：

基板处理装置，其对基板进行处理；

基板搬送机构，其具有保持基板的基板保持部，所述基板搬送机构构成为能够通过所述基板保持部来保持基板并相对于所述基板处理装置搬入和搬入该基板；

摄像装置，其设置于所述基板搬送机构，用于拍摄所述基板处理装置内的监视对象构件；以及

控制装置，

其中，所述控制装置使所述基板保持部移动，并使所述摄像装置拍摄所述监视对象构件中的多个部分，所述多个部分包括在进行处理时与基板的中央相向的中央部以及在进行处理时与基板的周缘侧相向的周缘部，

所述控制装置基于拍摄结果，针对所述监视对象构件中的所述多个部分分别计算表示该部分的状态的物理量。

2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中，

所述基板处理系统还具备线状构件，所述线状构件具有将从顶端入射的光导向基端的导光构件，所述线状构件形成为线状，配设于所述基板保持部，

所述摄像装置经由所述导光构件来拍摄所述基板处理装置内的监视对象构件。

3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其中，

所述摄像装置设置于所述基板搬送机构中的不与保持于所述基板保持部的基板发生干扰的位置，

所述线状构件以不妨碍所述基板保持部对基板的保持的方式形成为线状且配设于所述基板保持部。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的基板处理系统，其中，

所述监视对象构件是形成有多个喷出孔的构件，所述喷出孔用于在进行处理时朝向基板喷出处理气体，

所述物理量是所述喷出孔的直径。

5.根据权利要求4所述的基板处理系统，其中，

所述控制装置根据计算出的所述喷出孔的直径，来变更进行处理时的与处理气体有关的条件。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的基板处理系统，其中，

所述监视对象构件是用于对基板进行吸附来保持该基板的吸附保持构件，在所述监视对象构件形成有多个向基板侧突出的凸部，

所述物理量是所述凸部的直径。

7.根据权利要求6所述的基板处理系统，其中，

针对所述吸附保持构件设置有用于调节基板的温度的温度调节机构，

所述控制装置根据计算出的所述凸部的直径，来变更进行处理时的与温度调节机构有关的条件。

8.根据权利要求1～7中的任一项所述的基板处理系统，其中，

所述控制装置基于所述物理量的计算结果，来判定是否应更换所述监视对象构件。

9.根据权利要求1～8中的任一项所述的基板处理系统，其中，

所述控制装置使所述摄像装置拍摄所述基板处理装置内的预先决定的部分，

所述控制装置基于拍摄结果，来计算反应生成物在所述预先决定的部分的堆积量。

10.根据权利要求9所述的基板处理系统，其中，

所述控制装置基于所述堆积量的计算结果，来判定是否对所述预先决定的部分进行清洁。

11.一种状态监视方法，用于监视具备基板处理装置和基板搬送机构的基板处理系统中的基板处理装置内的构件的状态，

在所述基板处理系统中，所述基板搬送机构具有保持基板的基板保持部，所述基板搬送机构构成为能够通过所述基板保持部来保持基板并相对于所述基板处理装置搬入和搬出该基板，

所述基板处理系统还具备摄像装置，所述摄像装置设置于所述基板搬送机构，用于拍摄所述基板处理装置内的监视对象构件，

所述状态监视方法包括以下工序：

使所述基板保持部移动，并使所述摄像装置拍摄所述监视对象构件中的多个部分，所述多个部分包括在进行处理时与基板的中央相向的中央部以及在进行处理时与基板的周缘侧相向的周缘部；以及

基于进行所述拍摄的工序中的拍摄结果，针对所述监视对象构件中的所述多个部分分别计算表示该部分的状态的物理量。