[发明专利]测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质

说明书

本申请提供一种测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质，可应用于芯片验证领域，该方法包括：首先从测试图形库中选取满足第一设计规则的第一测试图形，再验证第一测试图形是否满足第二设计规则，将满足第一设计规则和第二设计规则的测试图形存储至有效测试图形库中。其中第一设计规则包括用于限定集成电路不同区域中第一检查项的数值范围的规则，第二设计规则包括用于限定第一测试图形所在区域中第二检查项的数值范围的规则，第一检查项和第二检查项之间具有关联关系。上述验证方法至少具有以下优点：提高了测试图形验证结果的准确性。

技术领域

本申请涉及芯片验证领域，尤其涉及一种测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质。

背景技术

一般来说，DRC的开发分为两个阶段，第一阶段为DRC代码的开发，第二阶段为验证图形的开发。通常第二阶段的开发时间占整个开发周期的三分之二。随着制程工艺尺寸越来越小，设计规则也会越来越多。因此，如何快速、全面、准确地验证测试图形的有效性成为亟需解决的一个问题。

发明内容

本申请实施例提供一种测试图形的验证方法、装置、设备及存储介质，至少可以提升测试图形验证结果的准确率。

根据一些实施例，本申请第一方面提供一种测试图形的验证方法，该方法包括：

从测试图形库中选取满足第一设计规则的第一测试图形，所述第一设计规则包括用于限定集成电路不同区域中第一检查项的数值范围的规则；

验证所述第一测试图形是否满足第二设计规则，所述第二设计规则包括用于限定所述第一测试图形所在区域中第二检查项的数值范围的规则，所述第一检查项与所述第二检查项之间具有关联关系；

将满足所述第一设计规则和所述第二设计规则的测试图形存储至有效测试图形库中。

在本申请的一个可选实施例中，所述第一检查项包括：所述集成电路中目标对象之间距离值，所述第二检查项包括：所述集成电路中目标对象之间的位置关系；所述目标对象包括半导体结构，通孔的至少一种。

在本申请的一个可选实施例中，所述从测试图形库中选取满足第一设计规则的第一测试图形，包括：

通过解析设计规则手册DRM文件获取所述第一设计规则，验证所述测试图形库中的测试图形是否满足所述第一设计规则；

将满足所述第一设计规则的测试图形作为所述第一测试图形。

在本申请的一个可选实施例中，所述验证所述第一测试图形是否满足所述第二设计规则，包括：

通过解析DRM文件获取所述第一测试图形所在区域的第二设计规则；

确定所述第一测试图形的配置文件中第二设计规则字段是否满足所述第一测试图形所在区域的第二设计规则。

在本申请的一个可选实施例中，若所述第一测试图形不满足所述第二设计规则，所述方法还包括：

响应于测试人员的第一操作，修正所述第一测试图形的配置文件中第二设计规则字段。

在本申请的一个可选实施例中，所述方法还包括：

从所述测试图形库中选取不满足所述第一设计规则的第二测试图形；

验证所述第二测试图形是否满足所述第二设计规则，若所述第二测试图形满足所述第二设计规则，响应于测试人员的第二操作，修正所述第二测试图形的配置文件中第一设计规则字段。

在本申请的一个可选实施例中，若所述第二测试图形不满足所述第二设计规则，所述方法还包括：

响应于所述测试人员的第三操作，修正所述第二测试图形的配置文件中第一设计规则字段以及第二设计规则字段。