[发明专利]一种标定方法、装置、电子设备及存储介质有效
申请号: | 202110853664.2 | 申请日: | 2021-07-28 |
公开(公告)号: | CN113313772B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 何星慰;黄虎;周璐 | 申请(专利权)人: | 浙江华睿科技股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/80 | 分类号: | G06T7/80;G06T7/73 |
代理公司: | 北京乐知新创知识产权代理事务所(普通合伙) 11734 | 代理人: | 江宇 |
地址: | 310051 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 标定 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
本申请提供了一种标定方法,包括:基于平面三自由度并联(UVW)平台对应的UVW坐标系中U轴与V轴之间的第一距离、所述UVW坐标系相对于预设平面坐标系旋转的旋转中心坐标和旋转角度,确定V轴移动的第二距离;基于所述V轴移动的第二距离,确定待标定目标的第一特征点在所述预设平面坐标系的第一坐标对应的第二坐标,以及确定待标定目标的第二特征点在所述预设平面坐标系的第三坐标对应的第四坐标;基于所述第三坐标和所述第四坐标,确定所述待标定目标沿V轴移动的距离、沿U轴移动的距离以及沿W轴移动的距离;本申请还提供一种标定装置、电子设备和存储介质,通过本申请提供的标定方法、装置、电子设备和存储介质,可以提升待标定目标的标定精度。
技术领域
本申请涉及定位技术领域,尤其涉及一种标定方法、装置、电子设备及存储介质。
背景技术
平面三自由度并联平台(UVW平台)因为其精度高、速度快等优点被广泛应用于贴合、装配、丝网印刷等生产工艺中。UVW平台是一种平面三自由度并联机构,结构简单,但是控制相对复杂,对放置在UVW平台的目标的校正精度相对较低,因此,如何提升校正的精度是需要解决的技术问题。
发明内容
本申请提供一种标定方法、装置、电子设备及存储介质,以至少解决现有技术中存在的以上技术问题。
本申请第一方面提供一种标定方法,包括:
基于UVW平台对应的UVW坐标系中U轴与V轴之间的第一距离、所述UVW坐标系相对于预设平面坐标系旋转的旋转中心坐标和旋转角度,确定V轴移动的第二距离;
基于所述V轴移动的第二距离,确定待标定目标的第一特征点在所述预设平面坐标系的第一坐标对应的第二坐标,以及确定待标定目标的第二特征点在所述预设平面坐标系的第三坐标对应的第四坐标;
基于所述第三坐标和所述第四坐标,确定所述待标定目标沿V轴移动的距离、沿U轴移动的距离以及沿W轴移动的距离。
上述方案中,所述确定V轴移动的第二距离之前,所述方法还包括:
确定UVW平台对应的UVW坐标系中U轴与V轴之间的第一距离。
上述方案中,所述确定UVW平台对应的UVW坐标系中U轴与V轴之间的第一距离,包括:
分别确定相机获取图像的第四特征点和第五特征点在V轴沿正方向移动第一距离阈值后的,在所述预设平面坐标系下的第九坐标和第十坐标;
分别确定所述相机获取图像的所述第四特征点和所述第五特征点在V轴沿负方向移动所述第一距离阈值后的,在所述预设平面坐标系下的第十一坐标和第十二坐标;
基于所述第九坐标和所述第十坐标确定第一直线;基于所述第十一坐标和所述第十二坐标确定第二直线,确定所述第一直线和所述第二直线的第一交点坐标。
上述方案中,所述确定UVW平台对应的UVW坐标系中U轴与V轴之间的第一距离,包括:
分别确定所述相机获取图像的第六特征点和第七特征点在U轴沿正方向移动所述第一距离阈值后的,在预设平面坐标系下的第十三坐标和第十四坐标;
分别确定所述相机获取图像的所述第六特征点和所述第七特征点在U轴沿负方向移动所述第一距离阈值后的,在所述预设平面坐标系下的第十五坐标和第十六坐标;
基于所述第十三坐标和所述第十四坐标确定第三直线;基于所述第十五坐标和所述第十六坐标确定第四直线,确定所述第三直线和所述第四直线的第二交点坐标;
确定所述第一交点坐标和所述第二交点坐标的Y轴方向分量之差,为所述UVW坐标系中U轴与V轴之间的第一距离。
上述方案中,所述确定V轴移动的第二距离之前,所述方法还包括:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江华睿科技股份有限公司,未经浙江华睿科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110853664.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。