[发明专利]质量检测方法及系统、电子设备、存储介质有效
申请号: | 202110853663.8 | 申请日: | 2021-07-28 |
公开(公告)号: | CN113313710B | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 周赏;王凯;刘羽;周璐;李铭 | 申请(专利权)人: | 浙江华睿科技股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T3/40;G06T17/20;G01B11/24;G01B11/00 |
代理公司: | 北京乐知新创知识产权代理事务所(普通合伙) 11734 | 代理人: | 江宇 |
地址: | 310051 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 质量 检测 方法 系统 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种质量检测方法,其特征在于包括:
在运动平台承载被检测对象沿水平平面移动过程中,基于由所述运动平台的编码器测量得到的编码值触发线激光三维扫描仪对所述被检测对象进行扫描;
基于所述编码值对所述线激光三维扫描仪扫描得到的单帧点云数据进行拼接,得到多帧点云数据;
针对待测物体的形状,确定所述待测物体的表面的拟合模型,当拟合模型适用于假设的局内点,即所有的未知参数都能从假设的局内点计算得出;利用得到的模型去测试其它点云数据,若某个点适用于估计的模型,确定该点为局内点;当满足设定数量的点被归类为假设的局内点,使用假设的局内点重新估计所述拟合模型,并通过估计局内点与所述拟合模型的错误率来评估所述拟合模型,确定最终的拟合模型;基于所述最终的拟合模型确定待拟合平面;
对所述多帧点云数据进行多次表面拟合,得到所述被检测对象的各表面的点云数据,其中,每次表面拟合基于当前的多帧点云数据进行一个表面的拟合,得到所述一个表面的点云数据,并在从当前的多帧点云数据中剔除所述一个表面的点云数据后,进行下一次表面拟合;以及
在待拟合表面为平面时,将待拟合表面的所述多帧点云数据划分为设定长宽的多个方形网格,对每个方形网格内的所述多帧点云数据进行表面拟合,并确定方形网格内每个点到拟合表面的距离,以平均距离作为该网格的平面度;依次比较各网格的平面度与平面度阈值的大小,若网格平面度小于平面度阈值,则标记该网格平面度满足条件;若网格平面度大于或等于平面度阈值,则标记该网格平面度不满足条件;依据平面度满足条件的网格数占比确定所述待拟合表面的平面度是否满足要求。
2.根据权利要求1所述的质量检测方法,其特征在于,所述线激光三维扫描仪的数量为多个,所述方法还包括:
对多个所述线激光三维扫描仪进行位姿标定,得到多个所述线激光三维扫描仪之间的位姿转换关系;
将多个所述线激光三维扫描仪基于相同的编码值触发扫描得到的多个点云数据,按照所述位姿转换关系转换到相同的坐标系,得到所述单帧点云数据。
3.根据权利要求2所述的质量检测方法,其特征在于,多个所述线激光三维扫描仪包括第一线激光三维扫描仪和第二线激光三维扫描仪,对所述第一线激光三维扫描仪和所述第二线激光三维扫描仪进行位姿标定,得到所述第一线激光三维扫描仪和所述第二线激光三维扫描仪之间的位姿转换关系包括:
在所述运动平台承载预设标定块运动过程中,基于由所述运动平台的编码器测量得到的编码值触发所述第一线激光三维扫描仪和所述第二线激光三维扫描仪对所述预设标定块进行扫描;
基于所述编码值对所述第一线激光三维扫描仪扫描得到的单帧点云数据进行拼接,得到第一多帧点云数据,以及基于所述编码值对所述第二线激光三维扫描仪扫描得到的单帧点云数据进行拼接,得到第二多帧点云数据,其中,所述第一多帧点云数据包括所述预设标定块的第一结构的点云数据,所述第二多帧点云数据包括所述预设标定块的第二结构的点云数据;
基于所述第一结构的点云数据、所述第二结构的点云数据,以及预先设置的所述第一结构与所述第二结构的位姿关系,确定所述第一线激光三维扫描仪和所述第二线激光三维扫描仪之间的位姿转换关系。
4.根据权利要求1所述的质量检测方法,其特征在于,在所述被检测对象的底面为平面的情况下,基于所述被检测对象的各表面的点云数据,对所述被检测对象进行质量检测包括:
基于所述被检测对象的所有侧面的所述多帧点云数据,分割出所述被检测对象的所有侧面的下边界;
确定所有侧面的下边界上的点到所述被检测对象的置放平面之间的距离,以平均距离作为所述被检测对象的所有侧面底边的间隙值。
5.根据权利要求1所述的质量检测方法,其特征在于,在所述被检测对象包括相互平行的第一表面和第二表面的情况下,基于所述被检测对象的各表面的点云数据,对所述被检测对象进行质量检测包括:
确定所述第一表面的几何中心到所述第二表面的第一距离,确定所述第二表面的几何中心到所述第一表面的第二距离;以所述第一距离和所述第二距离的平均值作为所述被检测对象的所述第一表面和所述第二表面的对面距。
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