[发明专利]壳体组件及其制作方法和电子设备

权利要求书

1.一种壳体组件，其特征在于，包括：

玻纤板；

打磨漆层，所述打磨漆层设置在所述玻纤板的一侧；

遮盖漆层，所述遮盖漆层设置在所述打磨漆层远离所述玻纤板的一侧；

UV纹理层，所述UV纹理层设置在所述遮盖漆层远离所述玻纤板的一侧；以及

镀膜层，所述镀膜层设置在所述遮盖漆层远离所述玻纤板的一侧。

2.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述UV纹理层包括：

第一UV纹理层，所述第一UV纹理层设置在所述遮盖漆层远离所述玻纤板的一侧；

第二UV纹理层，所述第二UV纹理层设置在所述镀膜层远离所述玻纤板的一侧。

3.根据权利要求1或2所述的壳体组件，其特征在于，所述遮盖漆层包括：

第一遮盖漆层，所述第一遮盖漆层设置在所述打磨漆层远离所述玻纤板的一侧；

第二遮盖漆层，所述第二遮盖漆层设置在所述第一遮盖漆层远离所述玻纤板的表面上。

4.根据权利要求1或2所述的壳体组件，其特征在于，还包括：

底漆层，所述底漆层设置在所述玻纤板和所述打磨漆层之间。

5.根据权利要求2所述的壳体组件，其特征在于，还包括：

接着层，所述接着层设置在所述镀膜层和所述第二UV纹理层之间。

6.根据权利要求2所述的壳体组件，其特征在于，所述壳体组件满足以下条件中的至少之一：

所述玻纤板的厚度为0.2～1.0毫米；

所述打磨漆层的厚度为10～20微米；

所述遮盖漆层的厚度为6～20微米；

所述第一UV纹理层的厚度为8～15微米；

所述第二UV纹理层的厚度为8～15微米；

所述镀膜层的厚度为100～1000纳米。

7.一种制作权利要求1～6中任一项所述的壳体组件的方法，其特征在于，包括：

形成玻纤板；

在所述玻纤板的一侧形成打磨漆层；

在所述打磨漆层远离所述玻纤板的一侧形成遮盖漆层；

在所述遮盖漆层远离所述玻纤板的一侧UV纹理层；以及

在所述遮盖漆层远离所述玻纤板的一侧镀膜层。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，形成所述UV纹理层的步骤包括：

形成第一UV纹理层，所述第一UV纹理层形成在所述遮盖漆层远离所述玻纤板的一侧；

形成第二UV纹理层，所述第二UV纹理层形成在所述镀膜层远离所述玻纤板的一侧。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，形成所述遮盖漆层的步骤包括：

形成第一遮盖漆层，所述第一遮盖漆层形成在所述打磨漆层远离所述玻纤板的一侧；

形成第二遮盖漆层，所述第二遮盖漆层形成在所述第一遮盖漆层远离所述玻纤板的表面上。

10.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，还包括：

形成底漆层，所述底漆层形成在所述玻纤板和所述打磨漆层之间。

11.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求1～6中任一项所述的壳体组件；

显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体组件相连，且所述显示屏组件和所述壳体组件之间限定出安装空间，其中，所述壳体组件的玻纤板靠近所述安装空间设置；以及

主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。