[发明专利]基于倒装焊的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置有效
申请号: | 202110780107.2 | 申请日: | 2021-07-09 |
公开(公告)号: | CN113540039B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 范政伟;陈循;刘泰成;蒋瑜;张书锋;汪亚顺 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;G01R31/26 |
代理公司: | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人: | 邱轶 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 倒装 tsv 应力 可靠性 试验 芯片 结构 装置 | ||
本发明涉及一种基于倒装焊的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置,芯片结构包括:硅衬底,硅衬底上阵列设置有多个贯通硅衬底上表面和下表面的TSV结构;顶部电极,位于硅衬底的上表面上,并用于与TSV结构的顶部相连接;底部电极,位于硅衬底的下表面上,并用于与TSV结构的底部相连接;在硅衬底上,将选择的TSV结构进行首尾相连形成菊花链或开尔文链互连结构,以及在与TSV结构相对应的位置设置有焊球。测试装置包括测试基板、试验夹具、多应力加载装置、信号采集装置等。本方案能够方便且全面地实现对实际的单个TSV或者多个TSV链路结构进行多应力加载,实现了通过试验手段科学全面且准确地评估TSV结构的可靠性。
技术领域
本发明涉及半导体领域,尤其涉及一种基于倒装焊的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置。
背景技术
随着先进芯片制程向3nm迈进,晶圆二维平面上晶体管密度逐渐接近物理极限,同时伴随着芯片研发成本的大幅度上升和研发周期的延长。因而,“摩尔定律”已经失灵。基于硅通孔(Through silicon vias,TSV)结构的三维集成封装因此应运而生。三维集成封装通过TSV和堆叠的方式将晶圆进行垂直方向上的集成,从而获得更小尺寸、更高带宽、更低延迟、更高性能的封装芯片,并且还可以与微机电系统(MEMS)实现异构集成,获得功能集成、高性能、低成本的芯片产品。这种显著的优势使得三维封装芯片得到了学术界和工程界的重视,相关产品已经逐渐从实验室走向市场应用。
但是,三维封装芯片也同时带来了新的可靠性问题,需要对其进行科学准确的可靠性评估,才能使相关产品快速走向市场并提高用户使用信心。TSV结构是三维集成封装最为典型和关键的结构之一,在芯片中承担能量、信号通路和机械支撑功能,其可靠性直接影响芯片性能和服役寿命,因而需要对其进行科学全面且准确地可靠性试验与评估。基于TSV的三维封装芯片在其制造和使用过程中需要承受温度、湿度、电流/电压、振动等多应力耦合作用,因而对其进行可靠性试验与评估必须要考虑多应力的耦合影响。而当前已有TSV结构可靠性的研究基本以有限元热仿真为主,缺少试验研究。为数不多的试验研究设计了专用的TSV测试芯片,对其进行了热循环和电偏置测试,但是这些芯片及测试电路均不能实现多应力加载。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于倒装焊的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置。
为实现上述发明目的,本发明提供一种基于倒装焊的TSV多应力可靠性试验芯片结构,包括:
硅衬底,所述硅衬底上阵列设置有多个贯通所述硅衬底上表面和下表面的TSV结构;
顶部电极,位于所述硅衬底的上表面上,并用于与所述TSV结构的顶部相连接;
底部电极,位于所述硅衬底的下表面上,并用于与所述TSV结构的底部相连接;
在所述硅衬底上,所述顶部电极和所述底部电极将选择的所述TSV结构进行首尾相连形成菊花链互连结构,且在所述底部电极远离所述TSV结构的一侧相对应的设置有焊球。
根据本发明的一个方面,在所述焊球上设置有底部焊球电极;
所述底部焊球电极与所述底部电极相对的分别位于所述焊球的上下两侧;
所述底部焊球电极为规则片状结构,且其表面积大于所述焊球的截面积。
为实现上述发明目的,本发明提供一种基于倒装焊的TSV多应力可靠性试验芯片结构,包括:
硅衬底,所述硅衬底上阵列设置有多个贯通所述硅衬底上表面和下表面的TSV结构;
顶部电极,位于所述硅衬底的上表面上,并用于与所述TSV结构的顶部相连接;
焊球,所述焊球与所述TSV结构一一对应的设置在所述TSV结构的底部;
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