[发明专利]一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液及其生产制备工艺

说明书

本发明公开了一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液及其生产制备工艺，预搅拌：将原料由进料管倒入预处理罐体内部，转动电机带动转动轴和过滤板转动，对原料进入预搅拌，将原料内部的沉淀混匀；本发明在原料混合加工前对其进行预处理，利用转动电机带动转动轴和过滤板转动，过滤板对原料起到了搅动的作用，避免原料长期放置出现沉淀使得其内部成分分布不均，使得原料可以本身混合均匀进入搅拌釜，促进了后续原料乳化过程的进行，且过滤板对原料也进行了过滤，过滤板持续旋转，使得原料中混杂的杂质粘附在过滤板的一侧，保证排入搅拌釜的原料可以保证洁净，在加工前将原料进行净化除杂，有效的提高了抛光液的质量。

技术领域

本发明涉及抛光液制备技术领域，具体为一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液及其生产制备工艺。

背景技术

随着5G技术的发展，碳化硅作为更优异的半导体材料应用越来越广泛，在实际应用过程中，碳化硅材料需要经过多重工艺加工，其中减薄、抛光是必不可少的过程，抛光是在研磨和磨削之后，为了出去硅表面层中的缺陷，并且为以后的抛光实现了完美的反射面，抛光过程中需要用到一定的抛光液；

但是目前抛光液在制备时是直接将所有的原料倒入搅拌釜内进行搅拌乳化，而原料长期放置会产生一定的沉淀，使得原料内部成分分布不均匀，需要一定的时间才能搅拌均匀，再进行乳化，导致确定的时间内原料搅拌乳化不充分，影响抛光液的正常使用，所以本发明提供了一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液及其生产制备工艺，来满足人们的需求。

发明内容

本发明提供一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液及其生产制备工艺，可以有效解决上述背景技术中提出的抛光液在制备时是直接将所有的原料倒入搅拌釜内进行搅拌乳化，而原料长期放置会产生一定的沉淀，使得原料内部成分分布不均匀，需要一定的时间才能搅拌均匀，再进行乳化，导致确定的时间内原料搅拌乳化不充分，影响抛光液的正常使用的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液的生产制备工艺，包括如下步骤：

S1：预搅拌：将原料由进料管倒入预处理罐体内部，转动电机带动转动轴和过滤板转动，对原料进入预搅拌，将原料内部的沉淀混匀；

S2：净化：过滤板在旋转时会对原料进行过滤，原料中的杂质粘附在过滤板表面，随着过滤板转动而移动至上方；

S3：清理：过滤板转至上方时，清理刷和配重块会自动下滑，将粘附在过滤板表面的杂质推入腔道内部；

S4：乳化：预处理罐体内部预处理完成的原料溶液通过控制阀和连接管道进入搅拌釜的内部，搅拌轴和搅拌叶片在两种速度旋转下对原料进行搅拌乳化处理；

S5：取样：乳化结束后，将套筒和取样圆筒放置于搅拌釜内部，将套筒和取样圆筒错位，使得相应位置的溶液有取样口进入取样圆筒内部，然后将套筒和取样圆筒向上提起即可。

与现有技术相比，本发明的有益效果：本发明结构科学合理，使用安全方便：

1.设置有净化除杂机构，在原料混合加工前对其进行预处理，利用转动电机带动转动轴和过滤板转动，过滤板对原料起到了搅动的作用，避免原料长期放置出现沉淀使得其内部成分分布不均，使得原料可以本身混合均匀进入搅拌釜，促进了后续原料乳化过程的进行，且过滤板对原料也进行了过滤，过滤板持续旋转，使得原料中混杂的杂质粘附在过滤板的一侧，保证排入搅拌釜的原料可以保证洁净，在加工前将原料进行净化除杂，有效的提高了抛光液的质量。

2.过滤板旋转至上方时，而配重块和过滤板活动连接，配重块和清理刷的自身重力会使其向前滑动，而清理刷向下滑动时，会将粘附在过滤板一侧的杂质通过排屑槽推入腔道内部，同时活动挡板旋转时会覆盖于位于下方的排屑槽表面，使得杂质进入腔道内部后，不会随着旋转而被排出，避免清除不彻底导致原料内部仍残留有杂质；