[发明专利]一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液及其生产制备工艺

权利要求书

1.一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液的生产制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1：预搅拌：将原料由进料管(802)倒入预处理罐体(801)内部，转动电机(803)带动转动轴(804)和过滤板(806)转动，对原料进入预搅拌，将原料内部的沉淀混匀；

S2：净化：过滤板(806)在旋转时会对原料进行过滤，原料中的杂质粘附在过滤板(806)表面，随着过滤板(806)转动而移动至上方；

S3：清理：过滤板(806)转至上方时，清理刷(809)和配重块(810)会自动下滑，将粘附在过滤板(806)表面的杂质推入腔道(805)内部；

S4：乳化：预处理罐体(801)内部预处理完成的原料溶液通过控制阀(7)和连接管道(6)进入搅拌釜(1)的内部，搅拌轴(4)和搅拌叶片(5)在两种速度旋转下对原料进行搅拌乳化处理；

S5：取样：乳化结束后，将套筒(904)和取样圆筒(909)放置于搅拌釜(1)内部，将套筒(904)和取样圆筒(909)错位，使得相应位置的溶液有取样口(11)进入取样圆筒(909)内部，然后将套筒(904)和取样圆筒(909)向上提起即可。

2.根据权利要求1所述的一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液，其特征在于，所述制备的抛光液由以下成分组成：

聚乙二醇200#43-47份，乙二醇苯醚31-35份，辛基酚聚氧乙烯醚6-10份，全氟聚醚8-12份，十六烷基三甲基氯化铵2-6份。

3.根据权利要求1所述的一种碳化硅半导体材料的研磨抛光液的生产制备工艺，其特征在于，所述搅拌釜(1)的一侧固定安装有安装架(2)，所述搅拌釜(1)顶端的中部固定安装有驱动电机(3)，所述驱动电机(3)的输出轴固定连接有搅拌轴(4)，所述搅拌轴(4)的表面对称固定安装有搅拌叶片(5)，所述搅拌釜(1)的顶部位于驱动电机(3)一侧位置处固定连接有连接管道(6)，所述连接管道(6)的一端固定安装有控制阀(7)，所述安装架(2)的顶端固定安装有净化除杂机构(8)，利用过滤板(806)可以对原料进行预搅拌，同时去除原料中混杂的杂质，并通过清理刷(809)将杂质推入腔道(805)内部储存；

所述搅拌釜(1)的顶部远离连接管道(6)的一端固定安装有精准取样机构(9)，利用取样圆筒(909)和套筒(904)相互错位，使得样品溶液进入取样圆筒(909)内部，便于在加工过程中对原料乳化情况进行掌握；

所述净化除杂机构(8)包括预处理罐体(801)、进料管(802)、转动电机(803)、转动轴(804)、腔道(805)、过滤板(806)、过滤孔(807)、限位条板(808)、清理刷(809)、配重块(810)、排屑槽(811)、活动挡板(812)、固定圆块(813)、毛刷(814)、连杆(815)和圆盘(816)；

所述安装架(2)的顶部固定安装有预处理罐体(801)，所述预处理罐体(801)顶端的中部固定连接有进料管(802)，所述预处理罐体(801)中部的一端固定安装有转动电机(803)，所述转动电机(803)的输出轴固定连接有转动轴(804)，所述转动轴(804)的中部开设有腔道(805)，所述转动轴(804)的表面对称固定安装有过滤板(806)，所述过滤板(806)的中部开设有过滤孔(807)，所述过滤板(806)的顶端固定连接有限位条板(808)，所述过滤板(806)的一端活动安装有清理刷(809)，所述清理刷(809)的两边部对称固定连接有配重块(810)，所述转动轴(804)的表面位于过滤板(806)一侧位置处均开设有排屑槽(811)；

所述腔道(805)的内部与排屑槽(811)对应位置处通过活动轴转动安装有活动挡板(812)，所述腔道(805)内部的一端嵌入安装有固定圆块(813)，所述固定圆块(813)的边部固定粘接有毛刷(814)，所述固定圆块(813)的中部固定连接有连杆(815)，所述连杆(815)的一端固定安装有圆盘(816)。