[发明专利]半导体清洗设备及其溶液流量监测装置

说明书

本申请实施例提供了一种半导体清洗设备的溶液流量监测装置。该溶液流量监测装置设置于半导体清洗设备内，用于对半导体清洗设备的有机溶液进行流量监测，包括：防爆盒及超声波流量计；防爆盒设置于半导体清洗设备内，并且防爆盒内具有密封的容置空间；超声波流量计设置于容置空间内部，并且超声波流量计的进液口及出液口均设置于防爆盒的盒壁上，超声波流量计的轴向沿水平方向设置，进液口及出液口在超声波流量计的轴向上具有一预设间距，预设间距大于等于108毫米，且小于等于115毫米。本申请实施例能够避免与超声波流量计连接的管路弯折，以及超声波流量计水平设置能大幅降低有机溶液内的气泡含量，从而提高检测的精确性。

技术领域

本申请涉及半导体加工技术领域，具体而言，本申请涉及一种半导体清洗设备及其溶液流量监测装置。

背景技术

目前，随着国内半导体清洗设备领域的飞速发展，客户对半导体清洗设备的安全性能提出了更高的要求。采用有机溶液的半导体清洗设备用于清除晶圆上的特殊介质或金属表面的刻蚀胶，有机溶液通常为EKC265、NMP及ST250等溶液，在实际应用时有机溶液会产生大量的挥发性气体，并且挥发性气体化学特性为易燃易爆，因此该半导体清洗设备需要采用金属外壳，并且其内部的关键部件均需要通过相关防爆等级认证。为了有效监控有机溶液的流量，还需要在半导体清洗设备内的循环管路上设置有流量计，以实现对循环管路及工艺槽内的有机溶液进行流量监控，从而避免出现晶圆发生粒子(Particle)超标等质量不合格的问题。

现有技术中，流量计通常设置于半导体清洗设备内的工艺槽附近，流量计的线缆则需要穿过半导体清洗设备内气路区后与电气盒连接。在实际使用过程中，由于流量计侧放且配合多重弯曲管路的结构，使得有机溶液内会产生大量的气泡，而气泡则会挡住流量计发射出的超声波的行进路线，从而降低了流量计的检测精确性。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种半导体清洗设备及其溶液流量监测装置，用以解决现有技术存在的流量计检测精确性较低的技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种半导体清洗设备的溶液流量监测装置，设置于所述半导体清洗设备内，用于对所述半导体清洗设备的有机溶液进行流量监测，包括：防爆盒及超声波流量计；所述防爆盒设置于半导体清洗设备内，并且所述防爆盒内具有密封的容置空间；所述超声波流量计设置于所述容置空间内部，并且超声波流量计的进液口及出液口均设置于所述防爆盒的盒壁上，所述超声波流量计的轴向沿水平方向设置，所述进液口及所述出液口在所述超声波流量计的轴向上具有一预设间距，所述预设间距大于等于108毫米，且小于等于115毫米。

于本申请的一实施例中，所述超声波流量计的线缆伸出所述容置空间与所述半导体清洗设备的电气盒连接；所述溶液流量监测装置还包括屏蔽管组件，所述屏蔽管组件的两端分别与所述防爆盒及所述电气盒密封连接，用于对所述超声波流量计的线缆进行屏蔽密封。

于本申请的一实施例中，所述预设间距为110毫米。

于本申请的一实施例中，所述防爆盒设置于所述半导体清洗设备的药液区，所述进液口及所述出液口处均设置有直连管，以用于分别与所述半导体清洗设备的有机溶液供给源及加热器连接。

于本申请的一实施例中，所述超声波流量计包括检测管及检测器，所述检测管的轴向沿水平方向设置，所述进液口及所述出液口沿所述检测管的轴向排布，两个所述检测器分别安装于所述检测管的两端，用于向所述检测管内发射或接收超声波。

于本申请的一实施例中，所述屏蔽管组件包括柔性管及卡套接头，所述柔性管的两端分别通过所述卡套接头与所述防爆盒及所述电气盒密封连接，所述柔性管用于嵌套所述超声波流量计的线缆。

于本申请的一实施例中，所述柔性管包括抗腐蚀材质的波纹管结构。

于本申请的一实施例中，所述卡套接头为金属材质的卡套接头，并且所述卡套接头的一端与所述防爆盒及所述电气盒采用螺接方式密封连接，另一端与所述柔性管采用卡接方式密封连接。