[发明专利]一种能够保持清洗辊清洁的晶圆清洗系统及清洗方法

权利要求书

1.一种能够保持清洗辊清洁的晶圆清洗系统，其特征在于，包括：

晶圆支撑部，其水平支撑晶圆并驱动晶圆旋转；

清洗辊，其设置于晶圆的两侧并绕其轴线滚动；

供液管，其设置于晶圆的侧部以朝向晶圆表面喷射清洗液；

冲洗管及其驱动部，所述冲洗管平行于所述清洗辊设置并位于晶圆的两侧，其上配置的喷嘴喷射的流体冲洗晶圆的表面；所述驱动部设置于所述冲洗管的端部，其驱动冲洗管转动，使得喷嘴朝向所述清洗辊的外周侧喷射流体，以冲洗清洗辊附着的颗粒物；

还包括超声波清洗部，所述超声波清洗部包括壳体、超声发生器和清洗管，壳体的底板配置有矩形孔，清洗管下部配置有出水口；出水口喷射的流体由超声发生器作用后，经由所述矩形孔输送至清洗辊的外周侧。

2.如权利要求1所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述冲洗管配置多个喷嘴，所述喷嘴沿所述冲洗管的长度方向间隔设置；所述喷嘴形成扇形水幕，相邻喷嘴形成的扇形水幕部分交叉重叠。

3.如权利要求2所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述冲洗管的喷嘴冲洗清洗辊时，所述清洗辊绕轴线转动，所述喷嘴形成的扇形水幕与所述清洗辊的转动方向相对。

4.如权利要求2所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述喷嘴形成的扇形水幕为片状结构，所述扇形水幕的厚度为0.5-3mm。

5.如权利要求1所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述超声波清洗部设置于所述清洗辊的外侧，其能够沿竖直方向移动以靠近所述清洗辊的外周侧；所述超声波清洗部朝向所述清洗辊喷射超声振动流体，使得颗粒物脱离于所述清洗辊。

6.如权利要求5所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述超声发生器设置于所述壳体的上部，所述清洗管设置于所述超声发生器的下部并位于所述壳体中；所述清洗管的出水口与所述壳体的矩形孔相匹配。

7.如权利要求6所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述壳体的底板为弧形板，其沿所述清洗辊的长度方向设置并罩设于所述清洗辊的上侧。

8.如权利要求7所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述壳体的底板与清洗辊的外周侧之间的间距为2mm-5mm。

9.如权利要求1所述的晶圆清洗系统，其特征在于，所述驱动部包括摆杆、连杆和气缸，所述气缸设置于晶圆清洗系统的箱体外侧，所述气缸的活塞杆通过连杆与摆杆铰接，所述摆杆与冲洗管的端部连接；所述气缸的活塞杆移动，其通过所述连杆驱动所述摆杆绕铰接点转动，以带动所述冲洗管摆动。

10.一种晶圆清洗方法，使用权利要求1至9任一项所述的晶圆清洗系统，其特征在于，包括：

晶圆支撑部驱动水平放置的晶圆旋转，位于晶圆两侧的清洗辊绕轴线转动；

供液管朝向晶圆表面喷射清洗液，转动的清洗辊接触清洗晶圆表面；

冲洗管朝向晶圆表面喷射流体以漂洗晶圆表面；

当清洗辊表面附着的颗粒物达到设定值时，超声波清洗部朝向所述清洗辊移动并超声处理清洗辊的表面；驱动部带动冲洗管摆动，冲洗管的喷嘴朝向清洗辊的外周侧喷射流体，以冲洗清洗辊附着的颗粒物。