[发明专利]显示面板及其制备方法

说明书

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，所述显示面板的制备方法包括以下步骤：提供一基板；在所述基板上制备出衬底层；在所述衬底层上制备出若干凹槽；以及在所述衬底层上以及所述凹槽内制备出电极走线，所述电极走线为嵌入式电极走线。本申请的技术效果在于，嵌入式电极走线减小线宽，增大电极走线的分布密度，增大子像素的分布密度，提高显示面板的开口率。

技术领域

本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

TFT-LCD因其物美价廉、质量轻、携带方便、使用寿命长、画面清晰、可靠度高等优点，备受人们的欢迎。TFT-LCD产品在我们的日常生活中随处可见，大至商业广告，小至智能手表。因其可靠度高，也大量用于军工行业，例如航天航空等。尽管现在新兴了很多先进的显示模式，例如OLED、QD、LED、Micro-LED、墨水屏等，因成本、寿命、可靠度、材料、技术障碍等各种原因，均未能完全取代TFT-LCD的地位。TFT-LCD仍然占据很大的市场份额。

随着社会科学技术的进步以及人们生活品质的提高，特别是应用场景的拓展，人们对显示屏提出了更多、更高的要求。显示屏有起初的简单显示到现在的可读写、可互动以及高响应速度、高色域、高对比度等等。显示品质的这些高要求，促使面板厂商不断科技创新，寻求新的解决方案来满足消费者的需求。OLED显示技术不仅能满足高响应速度、高色域、高对比度等需求，而且还可以集成很多功能，例如TP、sensor等。不仅如此，OLED还可以实现更轻薄化、实现柔性显示等。OLED的缺点在于发光材料的寿命问题，以及成本较高，降低了OLED的市场竞争力。

尽管OLED的出现分割了TFT-LCD的市场，导致TFT-LCD的市场份额有所下降，但TFT-LCD创新的脚步从未停止过。近年来TFT-LCD为了稳住市场份额，对显示品质做了很大的提升。例如dual cell技术、mini背光技术等。

目前常见提高像素开口率的方法有：

(1)将电极走线做得更细，但会导致电阻增加，进而导致RC的delay现象更加严重；

(2)采用DBS技术遮光取代BM遮光；

(3)采用新型半导体材料，减少TFT的大小；

(4)采用透明电极走线，但透明电极走线材料不成熟等；

所以亟需新的方法进一步增强像素的开口率。

发明内容

本申请的目的在于，提供一种显示面板及其制备方法，可以解决现有的显示面板提高像素开口率效果不佳的技术问题。

本申请提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：提供一基板；制备衬底层在所述基板上；制备若干凹槽在所述衬底层上；以及制备电极走线在所述衬底层上以及所述凹槽内，其中，所述电极走线为嵌入式电极走线。

进一步地，在所述的制备若干凹槽在所述衬底层上的步骤中，对所述衬底层依次进行曝光、显影、固化处理，形成所述凹槽；所述凹槽的深度为2～5微米。

进一步地，在所述的制备电极走线在所述衬底层上以及所述凹槽内的步骤中，在所述衬底层上以及所述凹槽内整面形成金属膜；采用曝光、显影、刻蚀的方式将所述金属膜图案化处理，形成电极走线；所述电极走线填充至所述凹槽内，并且延伸至所述衬底层上。

进一步地，所述金属膜的厚度大于所述凹槽的深度；设于所述衬底层上的金属膜的厚度为0.2～0.5微米。

进一步地，所述的制备电极走线在所述衬底层上以及所述凹槽内的步骤包括依次制备栅极走线以及制备源漏电极走线。

进一步地，在所述的制备栅极走线的步骤中，在所述基板上制备出第一衬底层；在所述第一衬底层上制备出若干第一凹槽；以及在所述第一衬底层上以及所述第一凹槽内制备出所述栅极走线。