[发明专利]显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基板；

制备衬底层在所述基板上；

制备若干凹槽在所述衬底层上；以及

制备电极走线在所述衬底层上以及所述凹槽内，其中，所述电极走线为嵌入式电极走线。

2.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述的制备若干凹槽在所述衬底层上的步骤中，

对所述衬底层依次进行曝光、显影、固化处理，形成所述凹槽；所述凹槽的深度为2～5微米。

3.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述的制备电极走线在所述衬底层上以及所述凹槽内的步骤中，

在所述衬底层上以及所述凹槽内整面形成金属膜；

采用曝光、显影、刻蚀的方式将所述金属膜图案化处理，形成所述电极走线；

所述电极走线填充至所述凹槽内，并且延伸至所述衬底层上。

4.如权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述金属膜的厚度大于所述凹槽的深度；

设于所述衬底层上的金属膜的厚度为0.2～0.5微米。

5.如权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述的制备电极走线在所述衬底层上以及所述凹槽内的步骤包括依次制备栅极走线以及制备源漏电极走线。

6.如权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述的制备栅极走线的步骤中，

在所述基板上制备出第一衬底层；

在所述第一衬底层上制备出若干第一凹槽；以及

在所述第一衬底层上以及所述第一凹槽内制备出所述栅极走线。

7.如权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述的制备栅极走线的步骤还包括：

在所述第一衬底层以及所述栅极走线上制备出栅极绝缘层；

在所述栅极绝缘层上沉积一层半导体材料，形成有源层，所述有源层与所述栅极走线相对设置。

8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述的制备源漏电极走线的步骤中，

在所述有源层以及所述栅极绝缘层上涂布一层透明衬底材料，形成第二衬底层，在所述第二衬底层上形成第二凹槽；

在所述第二沉积层以及所述第二凹槽内形成所述源漏电极走线。

9.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

衬底层，设于所述基板上；所述衬底层上开设有若干凹槽；以及

电极走线，填充于所述凹槽内，且延伸至所述衬底层的上表面，所述电极走线为嵌入式电极走线。

10.如权利要求9所述的显示面板，其特征在于，

所述电极走线的线宽为垂直线宽，所述垂直线宽为2～5微米。