[发明专利]显示面板、显示基板及衬底的制备方法、衬底

权利要求书

1.一种衬底的制备方法，其特征在于，包括：

提供基板，所述基板的一侧的表面包括多个第一区域和多个第二区域，所述第一区域和所述第二区域沿着预设方向交错排列；

在各所述第一区域上均形成间隔设置的多个纳米柱，以使设有所述纳米柱的所述第一区域的接触角大于所述第二区域的接触角。

2.根据权利要求1所述的衬底的制备方法，其特征在于，在各所述第一区域上均形成间隔设置的多个纳米柱包括：

形成覆盖各所述第一区域的辅助层；

图案化所述辅助层，以在各所述第一区域上均形成间隔设置的多个纳米柱。

3.根据权利要求2所述的衬底的制备方法，其特征在于，所述辅助层覆盖所述第二区域；图案化所述辅助层包括：

图案化所述辅助层对应于所述第一区域的部分，并去除所述辅助层对应于所述第二区域的部分。

4.根据权利要求1-3任一项所述的衬底的制备方法，其特征在于，图案化所述辅助层包括：

通过光刻工艺图案化所述辅助层。

5.根据权利要求4所述的衬底的制备方法，其特征在于，所述辅助层的材料为有机胶材。

6.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

采用权利要求1-5任一项所述的衬底的制备方法制备衬底；

通过碳纳米管溶液在所述第二区域上形成碳纳米管薄膜。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

去除所述纳米柱。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括权利要求6或7所述的显示基板的制备方法。

9.一种衬底，其特征在于，包括：

基板，所述基板的一侧的表面包括多个第一区域和多个第二区域，所述第一区域和所述第二区域沿着预设方向交错排列；

纳米柱，各所述第一区域均设有间隔设置的多个所述纳米柱，以使设有所述纳米柱的所述第一区域的接触角大于所述第二区域的接触角。

10.根据权利要求9所述的衬底，其特征在于，所述纳米柱的材料为有机胶材。

11.根据权利要求9所述的衬底，其特征在于，所述纳米柱的高度等于10nm-200nm。

12.根据权利要求9所述的衬底，其特征在于，所述纳米柱的横截面的最大尺寸等于5nm-200nm。

13.根据权利要求9所述的衬底，其特征在于，相邻的两个所述纳米柱之间的距离等于50nm-200nm。

14.根据权利要求9所述的衬底，其特征在于，设于各所述第一区域的多个所述纳米柱呈阵列分布。