[发明专利]光栅结构件及其制作方法、光栅结构模板和相关设备有效

专利信息
申请号: 202110270331.7 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN115079321B 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 邓焯泳 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B6/124
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 熊永强;李稷芳
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光栅 结构件 及其 制作方法 结构 模板 相关 设备
【说明书】:

本申请实施例提供一种光栅结构件、光栅结构模板、包括光栅结构件的衍射光波导、包括衍射光波导的电子设备,及光栅结构件的制作方法。所述制作方法包括:在基板上形成第一凸起;通过机械刻划工艺在所述第一凸起背向所述基板的表面刻划出多条第一栅线,形成第一光栅;在所述基板设有所述第一凸起的表面上形成第二凸起;通过机械刻划工艺在所述第二凸起背向所述基板的表面刻划出多条第二栅线,形成第二光栅;其中,所述第二栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第一光栅在所述基板上的投影部分重合,形成第二栅线的凹槽的底壁至基板的距离大于或等于第一凸起的厚度。本申请的制作方法能够获得具有良好传光效果的光栅结构件。

技术领域

本申请涉及光学技术领域,特别涉及一种光栅结构件及其制作方法、光栅结构模板和相关设备。

背景技术

衍射光波导或光栅结构件上通常有两个或以上的光栅,并且两个相邻光栅之间距离很近,若光栅的栅线通过机械刻划工艺形成,在制作过程中一个光栅的栅线时,与其相邻的光栅会被刻刀损伤形成划痕损,导致光栅外观不合格和显示杂散光等问题。

发明内容

本申请实施例提供一种光栅结构件、光栅结构模板、包括光栅结构件的衍射光波导、包括衍射光波导的电子设备,旨在获得一种具有良好传光效果的光栅结构件、衍射光波导和电子设备。本申请还提供一种光栅结构件的制作方法。

第一方面,本申请实施例提供一种光栅结构件的制作方法。所述制作方法包括:

在基板上形成第一凸起;

通过机械刻划工艺在所述第一凸起背向所述基板的表面刻划出多条第一栅线,形成第一光栅;

在所述基板设有所述第一凸起的表面上形成第二凸起;

通过机械刻划工艺在所述第二凸起背向所述基板的表面刻划出多条第二栅线,形成第二光栅;其中,所述第二栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第一光栅在所述基板上的投影部分重合,形成第二栅线的凹槽的底壁至基板的距离大于或等于第一凸起的厚度。

本申请保护的光栅结构的制作方法通过机械刻划工艺先形成厚度较低的第一光栅,再通过机械刻划工艺形成厚度较高的第二光栅,在通过机械刻划工艺形成第一栅线时,由于第二光栅还没有形成,刻刀不会在进刀或退刀的过程中划伤第二光栅;通过机械刻划工艺形成第二栅线时,形成第二栅线的凹槽的底壁至基板的距离大于或等于第一光栅的厚度,刻刀在进刀或退刀的过程中,也不会划伤第一光栅,保证了第一光栅和第二光栅在通过机械刻划过程中不会彼此造成损伤,有利于提高光栅结构件的合格率及传光效果。

一种可能的实现方式中,形成所述第二凸起时,使所述第二凸起与所述第一凸起间隔设置,以使第二凸起周围镂空。由于第二凸起周围镂空,刻刀在进刀或退刀的过程中不会在第二凸起周围形成刀痕,也就不会在镂空部分形成杂散光,提高了光栅结构件的传光效果。

一种可能的实现方式中,形成所述第一凸起的工艺为剥离工艺或者光刻工艺。

一种可能的实现方式中,所述制作方法还包括形成第三光栅,所述第三光栅与所述第二光栅间隔设置,所述第三光栅的第三栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第二光栅在所述基板上的投影间隔,所述第三光栅的厚度与所述第二光栅的厚度相同,或者,所述第三栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第二光栅在所述基板上的投影部分重合,形成所述第三光栅和所述第二光栅两者之一的栅线的凹槽的底壁至基板的距离大于或等于所述第三光栅和所述第二光栅另一者的厚度。

一种可能的实现方式中,所述制作方法还包括通过所述光栅结构件形成光栅结构模板。

一种可能的实现方式中,所述光栅结构模板通过电镀、压印、刻蚀工艺中的一种形成。

一种可能的实现方式中,所述制作方法还包括通过所述光栅结构模板形成光栅结构件。

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