[发明专利]光栅结构件及其制作方法、光栅结构模板和相关设备

权利要求书

1.一种光栅结构件的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

在基板上形成第一凸起；

通过机械刻划工艺在所述第一凸起背向所述基板的表面刻划出多条第一栅线，形成第一光栅；

在所述基板设有所述第一凸起的表面上形成第二凸起；

通过机械刻划工艺在所述第二凸起背向所述基板的表面刻划出多条第二栅线，形成第二光栅；其中，所述第二栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第一光栅在所述基板上的投影部分重合，形成第二栅线的凹槽的底壁至基板的距离大于或等于第一凸起的厚度。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成所述第二凸起时，使所述第二凸起与所述第一凸起间隔设置。

3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，形成所述第一凸起的工艺为剥离工艺或者光刻工艺。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括形成第三光栅，所述第三光栅与所述第二光栅间隔设置，所述第三光栅的第三栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第二光栅在所述基板上的投影间隔，所述第三光栅的厚度与所述第二光栅的厚度相同，或者，所述第三栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第二光栅在所述基板上的投影部分重合，形成所述第三光栅和所述第二光栅两者之一的栅线的凹槽的底壁至基板的距离大于或等于所述第三光栅和所述第二光栅另一者的厚度。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括通过所述光栅结构件形成光栅结构模板。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述光栅结构模板通过电镀、压印、刻蚀工艺中的一种形成。

7.根据权利要求5或6所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括通过所述光栅结构模板形成光栅结构件。

8.一种光栅结构件，其特征在于，光栅结构件包括基板、第一光栅和第二光栅，所述第一光栅和所述第二光栅均设于所述基板的同一表面上，所述第一光栅包括多条第一栅线，所述第二光栅包括多条第二栅线，所述第二栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第一光栅在所述基板上的投影部分重合，形成所述第二栅线的底壁至所述基板的距离大于或等于所述第一光栅的厚度。

9.根据权利要求8所述的光栅结构件，其特征在于，所述第一光栅和所述第二光栅间隔设置。

10.根据权利要求8或9所述的光栅结构件，其特征在于，所述第一光栅为闪耀光栅、三角形光栅或梯形光栅中的一种；和/或，所述第二光栅为闪耀光栅、三角形光栅或梯形光栅中的一种。

11.一种光栅结构模板，其特征在于，光栅结构模板包括基板、第一光栅样板和第二光栅样板，所述第一光栅样板和所述第二光栅样板均设于所述基板的同一表面上，所述第一光栅样板包括多条第一栅线，所述第二光栅样板包括多条第二栅线，所述第二栅线的延长线在所述基板上的投影与所述第一光栅样板在所述基板上的投影部分重合，形成所述第二栅线的凹槽的底壁至所述基板的距离大于或等于所述第一光栅样板的厚度。

12.一种衍射光波导，其特征在于，所述衍射光波导包括波导基体及设于波导基体上的如权利要求8至10中任一项所述的光栅结构件；或者，所述衍射光波导包括波导基体、第一光栅和第二光栅，所述第一光栅和所述第二光栅均设于所述波导基体的同一表面上，所述第一光栅包括多条第一栅线，所述第二光栅包括多条第二栅线，所述第二栅线的延长线在所述波导基体上的投影与所述第一光栅在所述波导基体上的投影部分重合，形成所述第二栅线的凹槽的底壁至所述波导基体的距离大于或等于所述第一光栅的厚度。

13.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求12所述的衍射光波导；或者所述电子设备包括权利要求8至10中任一项所述的光栅结构件。