[发明专利]叠对误差测量方法及叠对误差测量结构

权利要求书

1.一种叠对误差测量方法，包含：

在一半导体装置的一基板上设置一下层图案，包含：

设置具有一第一多个第一子图案的一第一图案，沿着一第一方向在一第一间隔延伸，且在与该第一方向交错的一第二方向上具有一第一间距；以及

设置具有一第二多个第二子图案的一第二图案，该第二多个第二子图案与该多个第一子图案交错，沿着该第一方向在一第二间隔延伸，且在与该第一方向交错的该第二方向上具有小于该第一间距的一第二间距；

设置一上层图案，该上层图案包含一第三图案，该第三图案具有该第一间距，且在该下层图案上方与该下层图案至少局部重叠；

产生与该下层图案的该第一间距有关的一第一反射的一阶绕射光，该第一反射的一阶绕射光与相对于该基板的一垂直平面具有一第一角度，以及产生与该第三图案有关的一第二反射的一阶绕射光，该第二反射的一阶绕射光与相对于该基板的该垂直平面具有该第一角度；

产生与该下层图案的该第二间距有关的一第三反射的一阶绕射光，该第三反射的一阶绕射光与相对于该基板的该垂直平面具有一第三角度，其中该第三角度为该第一角度的2至4倍大；以及

基于该第一反射的一阶绕射光以及该第二反射的一阶绕射光的一组合，判定该下层图案与该上层图案之间的一叠对误差。

2.如权利要求1所述的叠对误差测量方法，其中沿着该第一方向的该第一以及第二间隔有相同间隔，其中该第一间距为第二间距的至少3倍，以及其中至少三个第二子图案在每两个相邻第一子图案之间分布。

3.如权利要求1所述的叠对误差测量方法，进一步包含：

由一检测器检测该第一反射的一阶绕射光以及该第二反射的一阶绕射光的该组合；以及

将该第三反射的一阶绕射光从该检测器阻隔。

4.如权利要求1所述的叠对误差测量方法，进一步包含：

由一或多个检测器，基于一第一反射的负一阶绕射光以及一第二反射的负一阶绕射光的一组合，检测一第一信号；

由该一或多个检测器，基于一第一反射的正一阶绕射光以及一第二反射的正一阶绕射光的一组合，检测一第二信号；

组合该第一信号以及该第二信号；以及

基于该第一信号以及该第二信号的组合，判定该下层图案以及该上层图案之间的叠对误差。

5.一种叠对误差测量结构，包含：

一下层图案，设置在一基板上；以及

一上层图案，设置在该下层图案上，且与该下层图案至少局部重叠，其中：

该下层图案包含两非重叠图案的一第一图案和一第二图案；该第一图案具有多个第一子图案，沿着一第一方向以一第一长度延伸，且在与该第一方向交错的一第二方向上以一第一间距作设置；该第二图案具有多个第二子图案，沿着该第一方向以一第二长度延伸，且在与该第一方向交错的该第二方向上以一第二间距作设置；其中该多个第二子图案交错设置在该多个第一子图案之间，以及其中该第二间距小于该第一间距，当一第一的一阶绕射与一第二反射的一阶绕射离开该基板时，使得源自该下层图案的该第一间距的该第一反射的一阶绕射与源自该下层图案的该第二间距的该第二反射的一阶绕射分开；以及

该上层图案包含一第三图案，该第三图案具有多个第三子图案，在该第一方向延伸且在该第二方向上以该第一间距作设置。

6.如权利要求5所述的叠对误差测量结构，其中

该下层子图案的该第一间距的该第一反射的一阶绕射，配置以与相对于该基板的一垂直平面产生一第一角度；以及该下层子图案的该第二间距的该第二反射的一阶绕射，配置以与相对于该基板的该垂直平面产生一第二角度，且其中该第二角度至少为该第一角度的2倍。

7.如权利要求5所述的叠对误差测量结构，其中该第一间距为该第二间距的2至10倍之间，其中在沿着该第二方向的一第一间隔中，每两个相邻的第一子图案之间分布有2至10个第二子图案，以及其中在每个第一间隔中该多个第二子图案之一从该之一第二子图案的左侧或右侧连接至一第一子图案。