[发明专利]掩膜板的制作方法及掩膜板

权利要求书

1.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：

提供掩模基板，所述掩膜基板包括中间部和位于所述中间部两端的边缘部，所述中间部包括第一区域和至少一个第二区域，所述第一区域围设在所述第二区域的外围；

确定所述第一区域和所述第二区域的网孔分布信息；

根据所述网孔分布信息，刻蚀所述掩膜基板，于所述第一区域形成第一网格区，于所述第二区域形成第二网格区；

于所述第一网格区的至少一侧表面形成柔性绝缘保护膜，所述柔性绝缘保护膜覆盖所述第一网格区的至少一侧表面。

2.根据权利要求1所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，确定所述第一区域和所述第二区域的网孔分布信息包括：

设定所述第一区域和所述第二区域的网孔均匀分布，且所述第一区域和所述第二区域的网孔分布信息相同。

3.根据权利要求1所述掩膜板的制作方法，其特征在于，确定所述第一区域和所述第二区域的网孔分布信息包括：

建立所述掩膜基板三维模型；

设定所述掩膜基板三维模型的第二区域为开口结构，设定所述掩膜基板三维模型的第一区域为分布有多个网孔的网状结构，以形成掩膜板模型；

模拟所述掩膜板实际张网时的张网条件，获取所述掩膜板模型张网时的褶皱信息；

根据所述掩膜板模型的褶皱信息调节所述掩膜基板三维模型的第一区域的网孔分布信息，直至所述掩膜板模型的褶皱信息满足预设需求。

4.根据权利要求3所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述网孔分布信息包括网孔大小和网孔密度。

5.根据权利要求1所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，根据所述网孔分布信息，刻蚀所述掩膜基板，于所述第一区域形成第一网格区，于所述第二区域形成第二网格区包括：

于所述掩膜基板的一侧表面形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层包括中间光刻胶层和位于所述中间光刻胶层两端的边缘光刻胶层，所述边缘光刻胶层完全覆盖所述边缘部的一侧表面，所述中间光刻胶层覆盖部分所述中间部的一侧表面，所述中间光刻胶层具有与所述网孔分布信息相同的光刻图形；

以所述第一光刻胶层为掩膜，刻蚀所述掩膜基板，于所述第一区域形成所述第一网格区，于所述第二区域形成所述第二网格区；

去除所述第一光刻胶层。

6.根据权利要求1所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，于所述第一网格区的至少一侧表面形成柔性绝缘保护膜，所述柔性绝缘保护膜覆盖所述第一网格区的至少一侧表面包括：

于所述第二网格区和所述边缘部的至少一侧表面形成第二光刻胶层；

以所述第二光刻胶层为阻挡层，于所述第一网格区的至少一侧表面形成所述柔性绝缘保护膜；

去除所述第二光刻胶层。

7.根据权利要求1所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，掩膜板的制作方法还包括：

去除所述第二网格区，形成开口区。

8.根据权利要求1所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述柔性绝缘保护膜的组成材料的杨氏模量/所述掩膜基板的组成材料的杨氏模量≤1/200。

9.根据权利要求1所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述柔性绝缘保护膜的组成材料包括聚四氟乙烯、聚苯并咪唑或其组合。

10.一种掩膜板，其特征在于，包括：

中间部，所述中间部包括第一网格区和至少一个第二网格区，所述第一网格区围设在所述第二网格区的外围，所述第二网格区和所述第一网格区均为完全相同的网状结构；

边缘部，所述边缘部位于所述中间部的两端；

柔性绝缘保护膜，所述柔性绝缘保护膜形成于所述第一网格区，所述柔性绝缘保护膜完全覆盖所述第一网格区的至少一侧表面。

11.一种掩膜板，其特征在于，包括：

中间部，所述中间部包括第一网格区和至少一个开口区，所述第一网格区围设在所述开口区的外围；

边缘部，所述边缘部位于所述中间部的两端；

柔性绝缘保护膜，所述柔性绝缘保护膜形成于所述第一网格区，所述柔性绝缘保护膜完全覆盖所述第一网格区的至少一侧表面。