[发明专利]传送单元及用于处理基板的装置和方法在审
申请号: | 202110076016.0 | 申请日: | 2017-05-27 |
公开(公告)号: | CN112885730A | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 李暎熏;李载明 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687;H01L21/02;B08B3/04;B08B3/08;B08B3/14 |
代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 杨黎峰;姜香丹 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传送 单元 用于 处理 装置 方法 | ||
1.一种用于处理基板的装置,所述装置包括:
液体处理室,所述液体处理室将液体供应到所述基板上以对所述基板进行液体处理;
干燥室,所述干燥室去除所述基板上的残留液体;
传送单元,所述传送单元在所述液体处理室和所述干燥室之间传送所述基板;以及
控制器,所述控制器控制所述传送单元,
其中,所述传送单元包括:
手构件,所述手构件支撑所述基板;和
重量测量单元,所述重量测量单元测量所述基板上的残留液体的重量,
其中,所述控制器在所述基板被送入所述液体处理室之前接收所述基板的处理前重量,以及接收通过所述液体处理室进行液体处理的所述基板的处理后重量,并基于所述处理前重量和所述处理后重量之间的差异来计算所述基板上的残留液体的重量,
其中,如果所述差异偏离预设值,则所述控制器控制所述传送单元将所述基板再次载入所述液体处理室中以对所述基板进行液体处理。
2.根据权利要求1所述的装置,
其中,所述控制器接收在所述液体处理室中经液体处理的所述基板的处理后重量,
其中,经液体处理的所述基板的处理后重量还包括:
在所述传送单元将所述基板载出所述液体处理室之前不久或之后立即测量的传送前重量;和
在将所述基板载入所述干燥室之前不久测量的所述基板的传送后重量,并且
其中,所述控制器基于所述传送前重量和所述传送后重量之间的差异来计算传送所述基板时的液体损失量。
3.根据权利要求1所述的装置,其中,如果所述差异偏离所述预设值,则所述控制器产生联锁。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置,其中,所述重量测量单元包括安装在所述手构件上的测压元件,用于测量残留有所述液体的所述基板的重量。
5.一种用于处理基板的方法,所述方法包括:
在液体处理室中对所述基板进行液体处理;
在干燥室中干燥所述基板;和
将所述基板从所述液体处理室传送到所述干燥室,
其中,对所述基板的传送包括:测量所述基板上的残留液体的重量,
其中,对所述基板的传送还包括:
在将所述基板载出所述液体处理室之前不久或之后立即测量所述基板的传送前重量;
在将所述基板载入所述干燥室之前不久测量所述基板的传送后重量;以及
基于所述传送前重量和所述传送后重量之间的差异来计算在所述基板上的残留液体的损失量,
其中,如果所述差异偏离预设值,则将所述基板再次载入所述液体处理室中并进行液体处理。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,通过将所述基板从所述液体处理室传送到所述干燥室的传送单元来测量所述液体的重量。
7.根据权利要求6所述的方法,还包括:
在对所述基板进行所述液体处理之前,通过所述传送单元将所述基板载入所述液体处理室中,
其中,对所述基板的载送包括:在将所述基板载入所述液体处理室中之前测量所述基板的处理前重量,
其中,对所述基板的传送包括:测量在所述液体处理室中经液体处理的所述基板的处理后重量,并且
其中,基于所述处理前重量和所述处理后重量之间的差异来计算残留液体的重量。
8.根据权利要求6所述的方法,其中,如果所述差异偏离预设值,则进行维护。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的方法,其中,所述液体包括异丙醇(IPA)液体。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,对所述基板的干燥包括:在所述干燥室中进行超临界处理工艺。
11.根据权利要求6至8中任一项所述的方法,其中,所述传送单元在所述基板被水平支撑的同时将所述基板从所述液体处理室传送到所述干燥室。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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