[发明专利]一种密闭非透明腔室内工件的监控方法、装置和镀膜设备

说明书

本发明提供一种密闭非透明腔室内工件的监控方法，用于装载工件的载板能在密闭非透明腔室内运行，包括以下步骤：检测进入密闭非透明腔室的载板上是否放置有工件；对载板进行初次识别，并获得初次识别信息；依据初次识别信息生成工艺设备的工艺运行信息；向针对于密闭非透明腔室内的工件执行操作的工艺设备发送的工艺运行信息，工艺运行信息包括运行信息和不运行信息；对载板上放置有工件的位置执行运行信息，对载板上无工件的位置执行不运行信息；载板持续运行和监控，直至载板输出密闭非透明腔室。本发明通过监控方法对工件的状态进行监控，能够实时了解及掌握工件的工艺状态，避免密闭非透明腔室内载板上无工件的位置仍然进行非必要的操作。

技术领域

本发明属于太阳能电池制造领域，涉及生产制造过程中监控技术，具体为一种密闭非透明腔室内工件的监控方法、装置和镀膜设备。

背景技术

在生产制造过程，需要对各个工序的产品状态进行监控，以便于实时了解、掌握产品的生产状态，及时发现制造过程中的异常现象并及时采取相应的措施，确保生产顺利的进行。目前，很多产品的各个生产工序的监控大多通过人工进行的，但是，对于密闭非透明的装置内产品状态的监控是无法通过人工实现的。例如，太阳能电池生产过程中，在PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜工序中，由于PVD镀膜设备是真空密封且非透明的，因此，通过人工是无法监测并了解PVD镀膜设备的内部情况，从而产生以下弊端：

1.目前在PVD设备中只能监控载板在PVD设备中的状态，不能获得硅片状态(如载板区域分块排序、载板上的硅片分布、载板装载率等)；

2.载板上是否有硅片无法获得信息，所以无硅片的载板继续正常工艺，导致不能有效的控制靶材的使用，出现靶材的不合理使用的问题。

3.靶材的不合理使用，一方面出现无硅片的载板继续正常工艺，浪费靶材且额外增加载板镀膜的清洁费用；另一方面出现有硅片的载板有可能被人工遗漏，硅片的镀膜质量无法保证，有造成不良品的风险。

4.通过人工计算载板上硅片数量和时间，造成人力资源的浪费。

因此，需要设计一种能够解决密闭非透明腔室内的产品状态的监控，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种密闭非透明腔室内工件的监控方法、装置和镀膜设备。通过监控装置及监控方法的应用，能够实时了解、掌握、控制生产过程中密闭非透明腔室内工件的各种信息及生产工艺状态。

实现发明目的的技术方案如下：

本发明提供一种密闭非透明腔室内工件的监控方法，用于装载工件的载板能在密闭非透明腔室内运行，包括以下步骤：

检测进入密闭非透明腔室的载板上是否放置有工件；

对载板进行初次识别，并获得初次识别信息；

依据初次识别信息生成工艺设备的工艺运行信息；

向针对于密闭非透明腔室内的工件执行操作的工艺设备发送的工艺运行信息，工艺运行信息包括运行信息和不运行信息；

对载板上放置有工件的位置执行运行信息，对载板上无工件的位置执行不运行信息；

载板持续运行和监控，直至载板输出密闭非透明腔室。

本发明通过监控方法对工件的状态进行监控，能够实时了解及掌握工件的工艺状态，避免密闭非透明腔室内载板上无工件的位置仍然进行非必要的操作。

进一步的，初次识别信息包括载板上是否有工件、工件在载板上的位置、载板上工件的总数量、载板上工件装载率。

更进一步的，初次识别信息经所述载板上有无工件的颜色差异获取。

作为对上述监控方法的改进，监控方法还包括以下步骤：