[发明专利]组合物、偏振器层、层叠体及图像显示装置有效

专利信息
申请号: 202080062168.9 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN114341274B 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 星野涉;平井友树;松山拓史;柴田直也 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C08L101/02 分类号: C08L101/02;C08L33/14;C08K5/00;C08K5/11;C08K5/23;G02B5/30;G02F1/1335;B32B7/023;B32B27/06;B32B27/34;C08F20/28;C08F22/20
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 组合 偏振 层叠 图像 显示装置
【权利要求书】:

1.一种组合物,其为至少含有高分子液晶化合物、二色性物质及低分子液晶化合物的组合物,

所述高分子液晶化合物为具有下述式(1)所表示的重复单元(1)的共聚物,

所述低分子液晶化合物为下述式(LC)所表示的化合物,

所述组合物满足下述式(11)~(13)的关系,

Q1-SPL1-ML-SPL2-Q2 (LC)

所述式(1)中,PC1表示重复单元的主链,L1表示单键或2价的连结基团,SP1表示间隔基团,MG1表示介晶基团,T1表示末端基团,

所述式(LC)中,SPL1及SPL2分别独立地表示间隔基团,ML表示介晶基团,Q1及Q2分别独立地表示交联性基团或末端基团,Q1及Q2中的至少一个表示交联性基团,

|logP(SP1)-logP(SPL1)|≤2.0 (11)

|logP(MG1)-logP(SP1)|≥4.5 (12)

|logP(ML)-logP(SPL1)|≥4.0 (13)

式(11)~(13)中,logP(SP1)表示所述式(1)中的SP1的logP值,logP(MG1)表示所述式(1)中的MG1的logP值,logP(SPL1)表示所述式(LC)中的SPL1的logP值,logP(ML)表示所述式(LC)中的ML的logP值,

所述组合物还满足下述式(20)及(21)的关系,

D(SPL1)≥D(SPL2) (20)

式(20)及式(21)中,D(SPL1)表示所述式(LC)中的SPL1的分子长度,D(SPL2)表示所述式(LC)中的SPL2的分子长度,D(SP1)表示所述式(1)中的SP1的分子长度。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中,所述组合物还满足下述式(41’)的关系,

式(41’)中,D(SPL2)表示所述式(LC)中的SPL2的分子长度。

3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述组合物满足下述式(31)的关系,

logP(SPL2)≤1.5 (31)

在此,式(31)中,logP(SPL2)表示所述式(LC)中的SPL2的logP值。

4.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,

所述高分子液晶化合物还具有下述式(4)所表示的重复单元(4),

所述重复单元(4)的含量相对于所述高分子液晶化合物的总重复单元为10质量%以上,

在此,式(4)中,PC4表示重复单元的主链,L4表示单键或2价的连结基团,SP4表示间隔基团,T4表示交联性基团。

5.根据权利要求4所述的组合物,其中,

所述式(4)中的SP4的主链的原子数为15以上。

6.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,

所述式(1)中的SP1为氧化乙烯结构。

7.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述组合物还含有高分子表面改良剂。

8.一种偏振器层,其使用权利要求1至7中任一项所述的组合物而形成。

9.一种层叠体,其具有基材及设置于所述基材上的权利要求8所述的偏振器层。

10.根据权利要求9所述的层叠体,其中,

在所述基材上还具有取向层,所述取向层含有聚合物,所述聚合物包含具有交联性基团的重复单元,

所述具有交联性基团的重复单元的含量相对于所述聚合物的总重复单元为20质量%以上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080062168.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top