[实用新型]一种集成电路半导体嵌入刻蚀机台加工装置

说明书

本实用新型公开一种集成电路半导体嵌入刻蚀机台加工装置，包括框架机构和传动齿轮，所述框架机构内部插设有若干放置机构，本实用新型所达到的有益效果是：将半导体均匀放置在一号框架内，且位于限位栅栏内部的每个空隙中，通过一号框架上的过滤网与二号框架上的过滤网进行两侧的限位，方便相邻的半导体错位，提拉提拉把手，将套筒与三角块穿插，从而对放置机构进行限位，通过电机的工作，带动传动齿轮转动，从而带动与其啮合连接的外管转动，支撑台通过若干三角块与套筒的穿插带动若干放置机构在框架机构内的化学试剂内以一致速率且相同的方向进行均匀的搅拌，使半导体可以更好的和试剂接触，发生化学反应。

技术领域

本实用新型涉及一种集成电路半导体嵌入刻蚀机台加工装置，属于半导体加工技术领域。

背景技术

在现有的技术中，集成电路半导体在通过刻蚀机台加工的时候，其所使用的湿法化学刻蚀，其浸泡在化学试剂蚀刻的过程中，无法保持一致的速率进行，从而造成蚀刻加工不完全，存在一定的安装隐患，因此本实用新型提出一种集成电路半导体嵌入刻蚀机台加工装置。

实用新型内容

本实用新型提供一种集成电路半导体嵌入刻蚀机台加工装置，用于解决上述问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：

本实用新型一种集成电路半导体嵌入刻蚀机台加工装置，包括框架机构和传动齿轮，所述框架机构内部插设有若干放置机构，所述放置机构包括一号框架和二号框架，所述一号框架和二号框架同向一侧的内部均安装有过滤网，所述一号框架内部远离过滤网的一侧固定有限位栅栏，所述二号框架的顶部固定有提拉把手，所述二号框架的底部两端均固定有套筒。

优选的，所述框架机构包括外壳，所述外壳底部一侧连接有排液管，且与其相通，所述排液管远离外壳的一端安装有阀门，所述外壳内部底端安装有旋转平台，所述旋转平台的顶部固定有支撑台，所述支撑台顶部固定有外管，所述外管顶端的外壁设置有外齿，所述支撑台位于外管内的顶部均等距固定有若干组三角块，且每组所述三角块的数量为两个，所述外壳顶端一侧通过螺栓与固定架连接，所述固定架内部安装有电机，所述电机的转子端与传动齿轮底部固定。

优选的，所述传动齿轮与外管上的外齿相靠近的一端啮合连接。

优选的，每个所述套筒的底部均开凿有与三角块尺寸相匹配的三角槽，每个所述放置机构底部的两个套筒分别与每组的两个三角块穿插连接。

优选的，所述一号框架通过四角的卡块与二号框架四角的卡槽卡接。

优选的，所述二号框架上的过滤网与一号框架上的限位栅栏相靠近的一侧触接，所述一号框架上的限位栅栏与一号框架上的过滤网相靠近的一侧固定。

本实用新型所达到的有益效果是：将半导体均匀放置在一号框架内，且位于限位栅栏内部的每个空隙中，通过一号框架上的过滤网与二号框架上的过滤网进行两侧的限位，方便相邻的半导体错位，提拉提拉把手，将套筒与三角块穿插，从而对放置机构进行限位，通过电机的工作，带动传动齿轮转动，从而带动与其啮合连接的外管转动，支撑台通过若干三角块与套筒的穿插带动若干放置机构在框架机构内的化学试剂内以一致速率且相同的方向进行均匀的搅拌，使半导体可以更好的和试剂接触，发生化学反应。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型放置机构的拆分结构示意图；

图3是本实用新型外管的俯视结构示意图。