[实用新型]加热腔结构和硅片处理设备有效
| 申请号: | 202022452443.8 | 申请日: | 2020-10-29 |
| 公开(公告)号: | CN213570726U | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
| 发明(设计)人: | 左国军;梁建军;候岳明 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/50;C23C16/44;C23C16/54;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰 |
| 地址: | 213133 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 加热 结构 硅片 处理 设备 | ||
1.一种加热腔结构(1),其特征在于,包括:
加热腔体(11),用于提供真空环境,所述加热腔体(11)的侧壁(111)上设有通孔(1121);
隔离套管(12),由所述通孔(1121)伸入所述加热腔体(11)内,所述隔离套管(12)的至少一端位于所述加热腔体(11)外;
加热器(13),所述加热器(13)的发热部分设于所述隔离套管(12)内,所述加热器(13)的引线端由所述隔离套管(12)位于所述加热腔体(11)外的一端伸出;
连接组件(14),用于固定所述隔离套管(12)和所述加热器(13);
其中,所述隔离套管(12)与所述连接组件(14)使所述加热腔体(11)的内部与所述加热器(13)以及外部大气隔离。
2.根据权利要求1所述的加热腔结构(1),其特征在于,所述连接组件(14)包括:
法兰盘(141),设于所述通孔(1121)处,并与所述加热腔体(11)的侧壁(111)连接,所述法兰盘(141)套设于所述隔离套管(12)上,所述法兰盘(141)的内侧壁(111)上设有密封结构,以对所述通孔(1121)进行密封;
第一支架(142),设于所述隔离套管(12)位于所述加热腔体(11)外的一端,所述第一支架(142)分别与所述隔离套管(12)和所述加热器(13)连接,以对所述隔离套管(12)和所述加热器(13)进行定位,并使所述加热器(13)与所述隔离套管(12)之间保持非接触状态。
3.根据权利要求2所述的加热腔结构(1),其特征在于,所述第一支架(142)包括:
第一管夹(1421),包括第一夹持部(1422)和第一调整部(1423),所述第一夹持部(1422)套设于所述隔离套管(12)上,所述第一调整部(1423)用于调整所述第一夹持部(1422)的尺寸大小,以使所述第一夹持部(1422)夹紧所述隔离套管(12);
第二管夹(1431),包括第二夹持部(1432)和第二调整部(1433),所述第二夹持部(1432)套设于所述加热器(13)上,所述第二调整部(1433)用于调整所述第二夹持部(1432)的尺寸大小,以使所述第二夹持部(1432)夹紧所述加热器(13);
连接板(1441),分别与所述第一夹持部(1422)的底部和所述第二夹持部(1432)的底部固定连接,以对所述第一夹持部(1422)和所述第二夹持部(1432)进行定位。
4.根据权利要求3所述的加热腔结构(1),其特征在于,
所述第一夹持部(1422)包括两个相对设置的第一弧形板(1424)和一个第一槽形结构(1425),所述第一调整部(1423)包括第一锁紧螺栓(1426),所述第一槽形结构(1425)设于两个所述第一弧形板(1424)的底部,且所述第一槽形结构(1425)的两个侧板分别与两个所述第一弧形板(1424)连接,所述第一锁紧螺栓(1426)穿过所述第一槽形结构(1425)的两个侧板,用于调整两个所述第一弧形板(1424)之间的间距,以使两个所述第一弧形板(1424)夹紧所述隔离套管(12);
所述第二夹持部(1432)包括两个相对设置的第二弧形板(1434)和一个第二槽形结构(1435),所述第二调整部(1433)包括第二锁紧螺栓(1436),所述第二槽形结构(1435)设于两个所述第二弧形板(1434)的底部,且所述第二槽形结构(1435)的两个侧板分别与两个所述第二弧形板(1434)连接,所述第二锁紧螺栓(1436)穿过所述第二槽形结构(1435)的两个侧板,用于调整两个所述第二弧形板(1434)之间的间距,以使两个所述第二弧形板(1434)夹紧所述加热器(13);
所述连接板(1441)通过固定螺栓(1442)分别与所述第一槽形结构(1425)的底板以及所述第二槽形结构(1435)的底板固定连接。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





